鍍覆層形態(tài)、結(jié)構(gòu)、位置的不同應(yīng)力測量顯微鏡

鍍覆層中殘余應(yīng)力的形成，與鍍覆時(shí)的工藝方法、工藝參數(shù)、
鍍液組成、鍍覆層金屬熔點(diǎn)、鍍覆層厚度等因素有關(guān)。

  通常根據(jù)鍍覆層的性質(zhì)、形態(tài)、結(jié)構(gòu)、位置的不同．殘余應(yīng)力也
具有不同的性質(zhì)。例如鍍覆層金屬為低熔點(diǎn)金屬(如錫、鉛、鋅、鎘
等)時(shí)易形成壓應(yīng)力；而鍍覆層金屬為高熔點(diǎn)金屬(如銅、鐵、鉆、鎳
等)時(shí)易形成拉應(yīng)力。由鍍覆工藝、鍍液等因素引起鍍層材料趨向
膨脹時(shí)，鍍層內(nèi)應(yīng)力表現(xiàn)為壓應(yīng)力；反之使鍍層材料產(chǎn)生收縮時(shí)。
表現(xiàn)為拉應(yīng)力。這些情況在測試時(shí)都應(yīng)予以注意。

  有時(shí)發(fā)現(xiàn)個(gè)別熟料礦物顆粒的邊緣，在正交偏光鏡間也有較高
的干涉色，為了避免將其誤認(rèn)為酚鈣礦巢，可以拉出具偏光鏡進(jìn)
行觀察，如為熟料礦物，則顆粒外形此時(shí)不發(fā)生變化。
  礦渣活性度的測定
  粒狀礦渣活性度的測定，是基于礦渣結(jié)合石膏的化學(xué)能力，以
硫酸鈣與礦渣反應(yīng)之速度來表示它的活性度，實(shí)際上，我們是以
每20克礦渣，在一定條件下吸收的石膏量來表示其活性度的。
  礦渣的活性度決定于它的成分，成粒時(shí)的溫度以及熔融礦渣的
冷卻速度。
  氧化鋁在礦渣中以兩種狀態(tài)存在；一種是活性狀態(tài)，迷幻存在
于礦渣的玻璃質(zhì)中，能與石膏起作用；另一種是非活性狀態(tài)，它
存在于礦渣的結(jié)晶體中，以硅鋁酸二登上出現(xiàn)，不能與石膏起作
用。
  測定礦渣活性度的方法，可用鹽酸聯(lián)苯按容量法；也可用硫酸
重量法。

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