光學(xué)顯微鏡上對牙釉質(zhì)不同部位觀察齲損

  在光學(xué)顯微鏡水平上對牙釉質(zhì)不同部位破壞程度差異的解釋
是與假設(shè)釉柱、柱鞘及柱間牙釉質(zhì)的組成不同有關(guān)的。然而，現(xiàn)
在一般都同意釉柱之間和釉柱內(nèi)部的基本結(jié)構(gòu)是相同的，唯一可
見到的差異是晶體方向的不同。曾假定率先受溶解的組織位于晶
體呈現(xiàn)兩端相接的部位。釉柱不同部位晶體方向的差異，可用以
解釋齲損的側(cè)方與前端在顯微放射照相上的不同表現(xiàn)。然而，用
透射電鏡對釉質(zhì)小齲損進(jìn)行的詳細(xì)研究未能提供支持上述假設(shè)的
證據(jù)。
  曾試圖將電鏡下見到的齲壞牙釉質(zhì)的特征與偏光顯微鏡所確
定的病損破壞程度相聯(lián)系。方法是在牙齒磨片上測量齲損各個(gè)部
位的空隙容積，這個(gè)磨片的部位鄰近于用透射電鏡檢查的磨片部
位。對橫斷釉柱方向的標(biāo)本檢查的結(jié)果表明：除非標(biāo)本采自具有
約25％空隙容積的部位，否則不能查到明顯的晶體間微隙及晶體
本身的損傷。這樣，用透射電鏡可以認(rèn)出改變的最早部位是病損
體部，而第一層及第二層則看不到改變。

(本文由上海光學(xué)儀器廠編輯整理提供, 未經(jīng)允許禁止復(fù)制http://www.sgaaa.com)