直讀光譜分析儀器對環(huán)境要求較高，一般來說，直讀光譜分析儀使用空間要在12平方米以上；防塵，好遠離強電場及強磁場的場所；避免振動遠離粉塵；溫度：15-30 C,允許的大溫度變化： 5 C/小時；濕度:20-80%。 根據(jù)直讀光譜儀的外觀尺寸進行實驗室設計，且應將光譜分析儀與制樣設備分開房間放置，為日常操作方便，應在儀器的后，左，右留下一米左右空間。在前方的操作面前留有足夠空間，推薦的實驗室儀器間面積應在12平米以上。建議放置儀器的房間與放置氬氣及制樣設備的空間分隔開。 放置制樣設備的房間需根據(jù)用戶確定的制樣設備情況確認。一臺適當功率的空調。對于潮濕地區(qū)，需配備一臺去濕機；如果分析樣品外型不適于光譜儀分析要求，請備一臺切割機。一臺小型吸塵器，用于清潔火花臺。與測試產(chǎn)品相匹配的控制標樣。兩至三瓶氬氣，如氬氣純度無保障，需配置一臺氬氣凈化器電力要求。電壓：AC220，10%以內50/60Hz，接地保護的單相電源。(電壓波動超過 10％時需要3KVA的穩(wěn)壓器)。地線:必須單獨建立一條保護地線，接地電阻小于2歐姆。連接:電源插口要離主機3M以內，接地端子要離主機3M以內。 光譜分析儀對所用氬氣的要求：純度為99.996%以上的(高含水和含氧量為3ppm),如分析純金屬或高硅或鑄鐵樣品時需用純度為99.999%以上的氬氣(高含水和含氧量為2ppm)，如分析氮元素含量 0.05%，需采用氬氣凈化器以保證氬氣中的氮，水，氧含量均小于0.5ppm.氣源接口離主機3M以內。