KRI Ion Source eHL 線性離子源
KRI Ion Source eHL 線性離子源使用 eH 200 或 eH 400 做為模組,能應(yīng)用于寬范圍的襯底,離子源長度高達(dá) 1 米,通過嚴(yán)格調(diào)整模組間的距離可以實(shí)現(xiàn)最佳的均勻性和離子流。由于模組是平行放置,大大簡化了氣體、功率和電子三者的分布。KRI eHL 線性產(chǎn)品使用標(biāo)準(zhǔn)的端部霍爾模組并使設(shè)備的需求簡化,一個低成本、高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層、in-line 沉積和圓柱旋轉(zhuǎn)濺射系統(tǒng)。
KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術(shù)參數(shù):
電話:+86-21-5046-3511
郵箱:ec@hakuto-vacuum.cn
地址:上海市浦東新區(qū)
新金橋路1888號36號樓7樓702室
201206
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