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SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機
SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的
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2025-01-23 |
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SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情
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2025-01-23 |
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SWC-5000全自動兆聲硅片清洗機
SWC-5000全自動兆聲硅片清洗機：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于先進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下
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2025-01-23 |
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LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片
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2025-01-23 |
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LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基
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2025-01-23 |
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NPC-4000（A）全自動等離子去膠機（刻蝕機）
NPC-4000(A)全自動等離子去膠機(刻蝕機)概述：NANO-MASTER等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持
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2025-01-23 |
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NPC-3500（A）全自動plasma等離子清洗機
NPC-3500（A）全自動plasma等離子清洗機概述：NANO-MASTER等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持
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2025-01-23 |
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NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)
NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動上下載片，并且通過計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品特點：低成本帶預真空鎖，自動上下載片離子束：高達2KV/
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2025-01-23 |
產(chǎn)品分類
