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離子束刻蝕機 NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕
NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去
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2025-01-23 |
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離子束刻蝕 NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)概述：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去除。NANO-MAS
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2025-01-23 |
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ICP刻蝕 NRE-4000（ICPM）ICP刻蝕機
NRE-4000（ICPM）ICP刻蝕機概述：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪崿F(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工藝，包括刻蝕III-V化合物（如GaAs，InP，GaN，InSb）、II-VI化合物、介質(zhì)材料、玻璃、石英、金屬，以及硅和硅的化合物（如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe）等。NRE-4000（ICPM
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2025-01-23 |
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等離子體刻蝕 NRE-4000型RIE-PE刻蝕機
NRE-4000型RIE-PE刻蝕機概述：NRE-4000是一款獨立式PE刻蝕RIE刻蝕一體機，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口：一個帶有2的視窗,另一個空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持至大到12的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計，并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6Torr 或
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2025-01-23 |
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刻蝕機 NRE-4000（M）反應(yīng)離子刻蝕 那諾-馬斯特
NRE-4000（M）反應(yīng)離子刻蝕概述：NRE-4000是一款獨立式RIE系統(tǒng)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2的視窗,另一個空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持大到12”的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計，并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6Torr或更小的極限
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2025-01-23 |
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刻蝕設(shè)備 NRE-3500（A）全自動反應(yīng)離子刻蝕機
NRE-3500（A）全自動反應(yīng)離子刻蝕機概述：獨立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2的視窗,另一個空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持至大到12的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計，并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6Torr 或更小的極限
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2025-01-23 |
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刻蝕設(shè)備 NDR-4000（A）全自動DRIE深反應(yīng)離子刻蝕
NDR-4000（A）全自動DRIE深反應(yīng)離子刻蝕概述：全自動上下載片，帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8 ICP源。系統(tǒng)可以配套500L/S抽速的渦輪分子泵，可以使得工藝壓力達(dá)到幾mTorr的水平。在低溫刻蝕的技術(shù)下，系統(tǒng)可以達(dá)到硅片的高深寬比刻蝕。NDR-4000（A）全自動DRIE深反應(yīng)離子刻蝕主要特點：基于PC控制的緊湊
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2025-01-23 |
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反應(yīng)離子刻蝕 NRE-3500型RIE-PE刻蝕機
NRE-3500型RIE-PE刻蝕機概述：獨立式RIE刻蝕PE刻蝕一體機，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口：一個帶有2的視窗,另一個空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持至大到12的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計，并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6Torr 或更小的極限真空。該系
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2025-01-23 |
產(chǎn)品分類
