
光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一。印刷工業(yè)是光刻膠應用的另一重要領域。光刻膠根據其化學反應機理和顯影原理,可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質的是負性膠;反之,對某些溶劑是不可溶的,經光照后變成可溶物質的即為正性膠。利用這種性能,將光刻膠作涂層,就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。
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