
品牌: 法國KLOE 型號: UV-KUB 3 產地:法國 供應商:浙江揚清芯片技術有限公司 桌面型紫外掩膜對準機是全球shoukuan裝備有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜對準器中的理想冷光源紫外掩膜對準曝光機。能夠在4英寸工作面積上實現(xiàn)2微米微結構,對準精度高達3微米,廣泛用于光刻掩膜對準曝光,適用于微流體芯片,微電子,光學微結構,MEMS等微納器件的光刻制作。
品牌: 法國KLOE 型號: UV-KUB 2 產地:法國 供應商:浙江揚清芯片技術有限公司 UV-KUB 2是一款基于UV-LED技術的小型多功能曝光光刻設備,廣泛地應用于高校、研究所以及企業(yè)研發(fā)機構的MEMS實驗室、微流控實驗室、光電實驗室以及生物技術實驗室等,其具有下列特點: -低成本,結構緊湊,占地面積?。? -LED單色光全幅面曝光,均勻性好,效率高; -使用UV-LED 冷光源,實時對溫度控制減小溫差對材料的影響; -光源壽命超過10000小時; -開機后無需預熱; -可實現(xiàn)垂直溝槽的制作,發(fā)散角 2°; -觸摸屏操作,簡單易行。
品牌: 浙江揚清 型號: URE-2000/35 產地:杭州 供應商:浙江揚清芯片技術有限公司 創(chuàng)新采用三柔性支點實現(xiàn)高精度自動調平;真空接觸自動曝光;樣片升降、調平、接觸、曝光、復位實現(xiàn)自動化控制;采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明;可連續(xù)設定分離間隙;采用雙目雙視場顯微鏡實現(xiàn)高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。
品牌: 法國KLOE 型號: Dilase 250 產地:法國 供應商:浙江揚清芯片技術有限公司 主要優(yōu)勢 ? 小巧桌上型系統(tǒng) ? 掩膜板制作及激光直寫 ? 375nm 或405nm 激光源 ? 兼容所有光刻膠 ? 高深寬比: 1 x 20
品牌: 徠卡顯微系統(tǒng) 型號: LMD6 產地:德國 供應商:北京安麥格貿易有限公司 徠卡激光顯微切割系統(tǒng)LMD6帶來了全球領先的顯微切割技術。 與傳統(tǒng)激光顯微切割系統(tǒng)不同,徠卡激光顯微切割系統(tǒng)無需移動樣品,而是通過移動激光、重力收集,最大限度地避免樣品污染,為您提供可即時分析的完美切割組織樣品。
品牌: 徠卡顯微系統(tǒng) 型號: LMD7 產地:德國 供應商:北京安麥格貿易有限公司 徠卡激光顯微切割系統(tǒng)LMD7帶來了全球領先的顯微切割技術。 與傳統(tǒng)激光顯微切割系統(tǒng)不同,徠卡激光顯微切割系統(tǒng)無需移動樣品,而是通過移動激光、重力收集,最大限度地避免樣品污染,為您提供可即時分析的完美切割組織樣品。
品牌: 徠卡顯微系統(tǒng) 型號: LMD7 產地:德國 供應商:北京德利卡生物技術有限公司 徠卡激光顯微切割系統(tǒng)LMD7帶來了全球領先的顯微切割技術。 與傳統(tǒng)激光顯微切割系統(tǒng)不同,徠卡激光顯微切割系統(tǒng)無需移動樣品,而是通過移動激光、重力收集,最大限度地避免樣品污染,為您提供可即時分析的完美切割組織樣品。
品牌: 徠卡顯微系統(tǒng) 型號: LMD6 產地:德國 供應商:北京德利卡生物技術有限公司 徠卡激光顯微切割系統(tǒng)LMD6帶來了全球領先的顯微切割技術。 與傳統(tǒng)激光顯微切割系統(tǒng)不同,徠卡激光顯微切割系統(tǒng)無需移動樣品,而是通過移動激光、重力收集,最大限度地避免樣品污染,為您提供可即時分析的完美切割組織樣品。
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