鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。濺射鍍膜，利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。 精品推薦
品牌： 韓國ECOPIA 型號： AP-MMS1 產(chǎn)地：韓國 供應(yīng)商：上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

Ecopia科研用小型磁控濺射鍍膜機(jī) - 極高性價比！型號：AP-MMS1產(chǎn)地：韓國原裝進(jìn)口儀器特點(diǎn)：1/ 沉積材料：金屬；2/ 膜厚均勻性：≤ ± 5 % (4英寸基底)；3/ 沉積方式：直流磁控濺射；4/ 極限真空：1.0 x 10 -3 Torr；技術(shù)規(guī)格：1/ 最大樣品尺寸：4英寸；2/ 基底旋轉(zhuǎn)：0~10rpm；3/ 不銹鋼腔體，ID250 x H300 mm；4/ 真空泵：機(jī)械泵，150L/Min；5/ 靶槍：2英寸直徑 (選配：3英寸)；6/ 直流電源：2KW(800V - 2.5A)；7/ 氣體傳輸模塊：MFC控制，氬氣，100sccm；

品牌： 韓國ECOPIA 型號： AP-MTE1 產(chǎn)地：韓國 供應(yīng)商：上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

Ecopia科研用小型熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) - 極高性價比！型號：AP-MTE1產(chǎn)地：韓國原裝進(jìn)口儀器特點(diǎn)：1/ 沉積材料：金屬；2/ 膜厚均勻性：≤ ± 5 % (4英寸基底)；3/ 沉積方式：熱蒸發(fā)舟；4/ 極限真空：5.0 x 10 -6 Torr；技術(shù)規(guī)格：1/ 最大樣品尺寸：4英寸；2/ 基底旋轉(zhuǎn)：0~10rpm；3/ 不銹鋼腔體，ID250 x H300 mm；4/ 真空泵：機(jī)械泵，150L/Min；擴(kuò)散泵，215L/Sec；5/ 薄膜厚度監(jiān)控：石英振蕩傳感器實時厚度控制；6/ 厚度精度：0.5%；7/ 熱蒸發(fā)源：4英寸熱蒸發(fā)舟，交流電源；

品牌： 美國Veeco 型號： Fiji G2 Plasma ALD 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：香港電子器材有限公司

Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué)，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗，全球已安裝五百多臺ALD設(shè)備。方式: Plasma Thermal ALD優(yōu)勢: 標(biāo)準(zhǔn)自動加載鎖定集成、加熱、薄箔ALD trap薄膜: 氮化物AlN, Hf3N4, SiN, TiN, GaN, InN, AlGaN, BN, NbN, NbTiN, VN, TiVN, WN, WCN, TaN, CoN 金屬Ni, Pt, Ru 氧化物Al2O3, HfO2 , Nb2O5, NiO, SiO2, Ta2O5, TiO2, ZnO, ZrO2, Li2O, LiPON, La2O3, SnO2, In2O3, ITO, Ga2O3, MgO, MgxZn1-xO 硫化物ZnS, SnS, Cu2S, In2S3, Cu2ZnSnS4,PbS, CoS, ZnOS等反應(yīng)腔體大小: 可達(dá)200 mm設(shè)備尺寸: 1845 x 715 x 1920 mm操作模式: 連續(xù)模式(傳統(tǒng)Thermal ALD) 曝光模式(超高深寬比) 等離子體模式(等離子體加強(qiáng)ALD)功率: 220-240 VAC, 4200 W per reactor (不包含泵)最高溫度: 標(biāo)準(zhǔn)200mm襯底加熱至500°C / 可選100mm襯底加熱至800°C沉積均一性: 1σ均一性 / Thermal Al2O3 -1.5%, Plasma Al2O3 -1.5%循環(huán)時間:  2s per cycle with Al2O3 at 200°C兼容: 標(biāo)準(zhǔn)四端口，可增加至六端口。每一個源瓶均可放固態(tài)/液態(tài)/氣態(tài)前驅(qū)體，可獨(dú)立加熱至200°C閥門: 工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)ALD閥門(最小響應(yīng)10ms)前驅(qū)體源瓶: 50cc(最多填充25ml)不銹鋼氣瓶載氣/排氣: 100 sccmAr precursor carrier gas MFC  / 500 sccmAr Plasma gas MFC / 100 sccm N2 plasma gas MFC / 100 sc100 sccm H2 plasma gas MFC / cm O2 plasma gas MFC原位分析選項: H2S兼容配件, 原位QCM, 原位橢便儀, RGA端口, 光發(fā)射光譜儀, 樣品高度高達(dá)57mm的晶圓臭氧發(fā)生器, LVPD, 集成手套箱, 襯底偏壓?

品牌： 美國Veeco 型號： Phoenix G2 ALD System 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：香港電子器材有限公司

Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué)，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗，全球已安裝五百多臺ALD設(shè)備。方式: Thermal batch ALD優(yōu)勢: 大批量熱ALD鍍膜，可靠成熟，設(shè)計靈活，易于使用，并具有許多操作界面，許多內(nèi)置安全功能薄膜: 高達(dá)370 mm x 470 mm (Gen 2.5 Panels) / 100mm 晶片 - 240 to 360 / 150mm 晶片 - 80 to 160 / 200mm 晶片 - 80 to 100 / 300 mm 晶片 - up to 40 / 其它3D 對象自定義支架設(shè)備尺寸: 900 mm x 1370 mm x 1700 mm功率: 208 VAC 3 Phase, 8500 W (包含泵)最高溫度: 可達(dá)285°C沉積均一性: Al2O3 晶片 1.5% / Al2O3批量 1% 前驅(qū)體源瓶: 3.1 l 源瓶或 600 ml載氣/排氣: N2 or Ar MFC flow control原位分析選項: 臭氧發(fā)生器, LVPD,集成手套箱, 半自動負(fù)載自動負(fù)載, SECS/GEM 界面

品牌： 美國Veeco 型號： Firebird 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：香港電子器材有限公司

Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué)，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗，全球已安裝五百多臺ALD設(shè)備。Firebird Batch Thermal ALD System?方式: Thermal batch ALD優(yōu)勢:完全自動化的批量生產(chǎn)系統(tǒng)，最佳生產(chǎn)能力（每月最多40000片），最低的成本，最高的產(chǎn)量，極優(yōu)的一致性針對脆弱/溫度敏感的襯底解決方案，包括LNO/LTO/玻璃模塊化熱管理，以實現(xiàn)最佳工藝靈活性和產(chǎn)量薄膜: 氧化物薄膜，包含封裝層、光學(xué)涂層氧化物薄膜，包含封裝層、光學(xué)涂層反應(yīng)腔體大小:  無縫晶片尺寸轉(zhuǎn)換能力高達(dá)300mm

品牌： 美國Gatan 型號： 682 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：科揚(yáng)國際貿(mào)易（上海）有限公司

儀器簡介：型號682精密刻蝕鍍膜儀（PECS） 用于SEM、TEM和EM方面的精密刻蝕鍍膜系統(tǒng) PECS是一臺理想的具有斜面切割，樣品刻蝕和離子濺射鍍膜功能的儀器，其刻蝕和濺射鍍膜系統(tǒng)中獨(dú)一無二的離子束能夠形成鍍膜范圍大、干凈以及可視的樣品滿足掃描電鏡（SEM），透射電鏡（TEM）以及光學(xué)顯微鏡（LM）的需求。PECS中獨(dú)一無二的設(shè)計結(jié)構(gòu)使其成為非常通用的儀器，可選配型號682.40000的斜面切割工具，它是用于切割橫截面部分的獨(dú)特工具。技術(shù)參數(shù)：規(guī)格： 離子槍 三個潘寧離子槍與微型稀土永磁體 離子束能量 1.0 KeV 到10.0 KeV 離子束直徑 刻蝕槍 5mm FWHM；濺射槍 1mm FWHM 離子電流密度 峰 10mA/cm2 氣體流量 氬氣 0.1cc/分/槍 刻蝕范圍 根據(jù)離子槍能量為7mm-10mm不等 刻蝕速率 10.0keV下，硅材料約10m/小時，鎢材料約3m/小時 Airlock組裝 樣品載臺 接納1英寸（31mm）金相套和多種SEM短截線 樣本旋轉(zhuǎn)速率 可變速率10-60 rpm 樣品傾斜角度 固定角度或可變搖擺角度（0° - 90°） 樣品搖擺速率 可變速率5°/秒 - 36°/秒 選配 用于側(cè)插TEM的TEM適配器或SEM樣品載臺 鍍膜速率 10.0KeV下約0.5 /秒 碳 及 1.5 /秒 鉻 鍍膜范圍 均勻直徑超過30mm 耙材裝置 一方雙重耙材，可在真空狀態(tài)下從外直接選擇耙材 耙材材質(zhì) 四種耙材選擇（見詳細(xì)清單） 厚度監(jiān)控器 標(biāo)準(zhǔn)-顯示鍍膜速率和全部鍍膜厚度 干燥泵系統(tǒng) 兩個部分，隔膜泵搭配一個70 升/秒渦輪泵 壓力 5E-6 托（6.6E-4Pa）基本壓力 6E-5 托（8E-3Pa）工作壓力 真空計 樣品腔冷陰極規(guī)，搭配固態(tài)壓力傳感器 樣品調(diào)換 Gatan專利 WhisperlokTM，樣品更換時間＜1分鐘 液態(tài)氮閥 約5小時容量（標(biāo)準(zhǔn)） 活性碳過濾器 真空排氣裝置，以減少碘蒸汽排放到安全標(biāo)準(zhǔn) 尺寸及功率 總尺寸 560mmW x 480mmD x 430mmH (22W x 19D x 17H) 貨運(yùn)重量 45kg （100 lbs） 電源要求 通用電壓 100VAC-240VAC，50/60Hz 用戶需確定電源型號以保證正確的線路 能量消耗 運(yùn)行時需200瓦特，離子槍關(guān)閉時需100瓦特 氣體需求 氬氣 70psi （4.82 bar） 替代氣體（其它惰性）20psi （1.38 bar） 碘蒸汽用于反應(yīng)離子束刻蝕（結(jié)晶碘由用戶自行提供）主要特點(diǎn)：濕化學(xué)刻蝕的替代或補(bǔ)充 可控的重復(fù)性結(jié)果（離子槍電壓，離子束電流和刻蝕時間） 刻蝕和鍍膜在同一真空腔內(nèi)進(jìn)行減少樣品處理 樣品刻蝕后立即鍍膜，排除樣品污染 包括一個膜厚度監(jiān)控器精確控制薄膜厚度 高樣品生產(chǎn)量，專利Whisperlok能快速、簡單進(jìn)行樣品交換 Whisperlok具有使樣品同時旋轉(zhuǎn)和搖動保證刻蝕和鍍膜均勻的特點(diǎn) 反應(yīng)離子束刻蝕（RIBE系統(tǒng)） 無化學(xué)處理或操作安全 PECS使用手冊 一般來說，如果材料的組成具有不同的化學(xué)性質(zhì)，通過常規(guī)化學(xué)刻蝕方法不可能揭示一種不同組成的材料其各個相的結(jié)構(gòu)。但離子束刻蝕技術(shù)在這些實例中效果不錯。這種方法在金相學(xué)中比較重要的一個用途是用于具有極端不同化學(xué)潛能的金屬化學(xué)物的刻蝕。應(yīng)用實例顯示，通過離子束刻蝕方法可以證明不同種類材料是通過不同加工工藝制得。 測試過程和結(jié)果 PECS（精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)）中包含離子束刻蝕系統(tǒng)。系統(tǒng)中的大離子束源產(chǎn)生一個光束直徑為10mm的垂直入射離子束源給樣品，根據(jù)離子槍參數(shù)（離子槍電壓和離子束電流）。使試樣傾斜，如改變?nèi)肷浣且约翱涛g過程中旋轉(zhuǎn)試樣，刻蝕直徑可以進(jìn)一步擴(kuò)大。雖然金屬的各種化學(xué)組成非常不同，離子束刻蝕卻可以同時且完全地揭示各化合物的結(jié)構(gòu)。DIC（微分干涉對比）可以用來增強(qiáng)由離子轟擊產(chǎn)生的刻蝕引起的特性反差。單個化合物濺射范圍在優(yōu)化離子束刻蝕復(fù)合材料方面具有重要作用。雖然表面層和底層化學(xué)特性有巨大差異，但是其濺射范圍相近。
型號682.40000斜面切割工具（SC-Tool）- 提供均質(zhì)/非均質(zhì)材料橫截面可組合切割并最小化減少其機(jī)械變形或損壞。 使用精密刻蝕鍍膜儀（PECS）的SEM技術(shù)是一本32頁的小冊子，配以使用Gatan PECS得到的高質(zhì)量照片以及利用PECS如何達(dá)到最佳結(jié)果的“方法”。主要包括清潔、鍍膜、刻蝕、金相、EBSD、DIE包覆、以及碳、鉻、鉑、金、鈀的濺射速率表。。

品牌： 德國普發(fā)真空 型號： pfeiffer classic系列 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：伯東企業(yè)（上海）有限公司

伯東公司德國普發(fā)pfeiffer 鍍膜機(jī)-靈活設(shè)計適合技術(shù)研究、開發(fā)和生產(chǎn),可實現(xiàn)高真空蒸發(fā)鍍膜,磁控濺射鍍膜,離子鍍.Pfeiffer Classic 系列鍍膜機(jī)（高真空鍍膜系統(tǒng)）經(jīng)過大量實驗和技術(shù)知識積累研發(fā)設(shè)計主要應(yīng)用領(lǐng)域: 光學(xué),微電子學(xué),顯示屏,光電工程,生物醫(yī)學(xué)工程等行業(yè).價格電議：021-50463511Pfeiffer 鍍膜機(jī)主要型號包含:Pfeiffer Classic 250 鍍膜機(jī)(低成本實驗室系統(tǒng),用于開發(fā)研究)Pfeiffer Classic 500 鍍膜機(jī)(最受歡迎的鍍膜機(jī),用于系統(tǒng)研究、開發(fā)和批量生產(chǎn))Pfeiffer Classic 570 鍍膜機(jī) (緊湊設(shè)計適合工業(yè)使用)Pfeiffer Classic 580 鍍膜機(jī) (通用的制造系統(tǒng),滿足最高工業(yè)需求)Pfeiffer Classic 590 鍍膜機(jī) (高吞吐量,通用的制造系統(tǒng),滿足最高工業(yè)需求)Pfeiffer Classic 620 鍍膜機(jī) (最大吞吐量)pfeiffer 鍍膜機(jī)主要優(yōu)勢:可搭配多種泵組(渦輪分子泵、低溫泵或油擴(kuò)散泵)pfeiffer 鍍膜機(jī)真空腔體可冷卻可加熱,極限真空度最高可達(dá) 5 10-7 mbar,腔體漏率 1 10-5 mbar l/s真空腔體大小 35 至 1300 l(特殊尺寸可定制)鍍膜機(jī)各種尺寸大小,根據(jù)實際應(yīng)用和氣體吞吐量決定內(nèi)置各種標(biāo)準(zhǔn)配件,堅固耐用滿足嚴(yán)苛工業(yè)環(huán)境低運(yùn)營成本,易維護(hù),兼容潔凈室通過附加配件升級鍍膜機(jī)功能pfeiffer 鍍膜機(jī)所有真空腔體均是不銹鋼材質(zhì)pfeiffer 鍍膜機(jī)工藝:pfeiffer 鍍膜機(jī)蒸鍍過程優(yōu)勢:抗反射涂層耐劃傷性涂料激光面鏡接觸金屬化合金的沉積(Co-evaporation)pfeiffer 鍍膜機(jī)磁控濺射介紹:除了高真空蒸鍍系統(tǒng)，伯東公司德國普發(fā)pfeiffer 也提供磁控濺射腔體可選load-lock.相應(yīng)型號Classic 250 to 570,有標(biāo)準(zhǔn)版本供選擇或根據(jù)濺射過程選擇(SP)定制版本可用于：金屬層(金、銅、鋁、鉻、…)電介質(zhì)層(二氧化硅,氧化鋁,…)透明導(dǎo)電層(ITO磁層合金的沉積(co-sputtering)伯東公司 主要經(jīng)營產(chǎn)品 德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應(yīng)用于各種條件下的 真空測量(真空計, 真空規(guī)管); 氦質(zhì)譜檢漏儀；質(zhì)譜分析儀；真空系統(tǒng)以及 Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機(jī)和美國KRI 離子源.伯東公司協(xié)助客戶選型并提供完善的售后服務(wù),我司將竭誠為您服務(wù)！若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請登錄我們網(wǎng)站: www.hakuto-vacuum.cn或與市場部: 葉南 小姐聯(lián)系Tel: 86-21-5046-3511轉(zhuǎn)106Fax: 86-21-50461490Mobile: 86 13816124243E-mail: ec@hakuto-vacuum.cn

品牌： 美國泰德派勒 型號： 108 Manual 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：廣州競贏化工科技有限公司

108 manual是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌上型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜。

品牌： 徠卡顯微系統(tǒng) 型號： EM ACE200 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：天津徠科光學(xué)儀器有限公司

Leica EM ACE 鍍膜儀 全新一代ACE系列鍍膜儀是徠卡與前沿科學(xué)家合作研發(fā)的結(jié)晶，它涵蓋了您在樣品制備過程中所需的所有鍍膜需求，從常溫鍍膜到冷凍斷裂/冷凍鍍膜. 樣品進(jìn)行掃描電鏡觀察前，通常需要對其表面鍍一層金屬膜，以便減少觀察時產(chǎn)生的荷電，并增強(qiáng)二次電子或背散射電子信號，獲得更好的信噪比。 Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能，或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制，簡單方便。 碳絲蒸發(fā)的新紀(jì)元 厚達(dá)40nm的碳膜可以被精確設(shè)定并準(zhǔn)確獲得，通過脈沖碳絲蒸發(fā)，結(jié)合連續(xù)膜厚監(jiān)控（石英片膜厚控制），和獨(dú)特的軟件控制來實現(xiàn)。碳膜因此實現(xiàn)高度可重復(fù)性和均勻性。得益于可拆卸式玻璃門，擋板和樣品室屏蔽內(nèi)壁，鍍膜源和樣品臺，樣品室內(nèi)部清潔工作非常簡便。主要特點(diǎn):少…? 操作者干預(yù)時間和專業(yè)知識? 投入成本? 桌面占用面積? 密封表面-單門式設(shè)計? 清潔工作-可拆卸式玻璃門，樣品室屏蔽內(nèi)壁和擋板? 操作工作-簡易的插入式連接設(shè)計-無需借助工具…即是多? 直觀的觸摸屏設(shè)計和自動化過程控制? 可定制硬件配置，軟件可升級? 實驗室空間? 可視化，裝樣簡便，抽真空快速? 鍍膜高效，使您的工作時間更自由? 鍍膜更純，膜厚更精準(zhǔn)，結(jié)果重復(fù)性更好技術(shù)指標(biāo)： 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化） 專利設(shè)計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度 可選石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達(dá)0.1nm 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程 觸摸屏控制，簡單方便 真空度7×10-3mbar 濺射電流：0-150mA可調(diào) 方形樣品倉專利設(shè)計，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高） 工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm

品牌： 美國MVSystems 型號： MVS－PECVD 產(chǎn)地：美國 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

薄膜沉積設(shè)備PECVD MVS公司簡介MVSystems, Inc. 由曼登博士（Dr. Arun Madan）創(chuàng)建于1989年。曼登博士曾在英國丹迪大學(xué)從師于斯皮爾（Walter Spear)教授，是1970年代最早從事非晶硅材料和器件研究的人員之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶體管（TFT)方面進(jìn)行了開創(chuàng)性的研究，這是他的博士論文的主要內(nèi)容之一。非晶硅薄膜晶體管現(xiàn)已成為平板顯示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半導(dǎo)體技術(shù)和先進(jìn)的高真空半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備方面擁有14項專利，包括：多腔室PECVD沉積系統(tǒng) 主要產(chǎn)品 ? 用于柔性襯底的Reel-to-reel多室系統(tǒng) - 主要產(chǎn)品碳熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備 摻氟納米硅（微晶硅）材料P型寬帶隙非晶硅材料 摻氟二氧化錫絨面透明導(dǎo)電膜（與日本Asahi公司合作）公司生產(chǎn)制造的80多臺設(shè)備已銷往全世界23個國家和地區(qū)。公司生產(chǎn)的主要薄膜材料和器件產(chǎn)品包括：材料器件非晶硅（a-Si:H)薄膜硅太陽電池納米(微晶)硅 (nc-Si)薄膜晶體管氮化硅(SiNx)，氧化硅(SiOx)，氮氧化硅(SiON)成像器件氧化鋅(AZO)，銦錫氧化物(ITO), 二氧化錫(SnO2)X光探測器MVSystems公司設(shè)計，制造和提供各類單腔室和多腔室薄膜沉積設(shè)備。另外，根據(jù)用戶的需求，各種PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以單個制造，也可配備到現(xiàn)有的團(tuán)簇型（星型）或是直線型沉積系。我們公司的工程設(shè)計部門盡可能為用戶著想，以使用戶們獲取他們最需要的且價格合適的設(shè)備。R D toProduction可用于研發(fā)和生產(chǎn)?PECVD等離子化學(xué)氣相沉積?HWCVD熱絲化學(xué)氣相沉積?Sputter濺射?Anneal退火處理R D Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8個腔室的團(tuán)簇型沉積系統(tǒng)15.6x15.6cm substrates襯底尺寸為15.6x15.6cmComputer controlled可完全由電腦程序控制操作運(yùn)行PECVD, HWCVD and Sputter capability制備方式包括等離子體和熱絲化學(xué)氣相沉積，及濺射R D Cluster toolsCluster tool w/ 10 port locations具有10個腔室的團(tuán)簇型沉積系統(tǒng)15.6x15.6cm substrate襯底尺寸為15.6x15.6cmComputer controlled可完全由電腦程序控制操作運(yùn)行PECVD, HWCVD, Sputter capability and in-vacuum characterization module制備方式包括等離子體和熱絲化學(xué)氣相沉積，以及濺射。另外，該系統(tǒng)還帶有一個測試腔， 用于在真空中測試所制備樣品的光電子性能。R D Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8個腔室的團(tuán)簇型沉積系統(tǒng)30x40cm substrate襯底尺寸為30x40cmComputer controlled可完全由電腦程序控制操作運(yùn)行PECVD, HWCVD and Sputter capability 制備方式包括等離子體和熱絲化學(xué)氣相沉積，及濺射。Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells用于制備多晶硅太陽電池的氮化硅涂層沉積設(shè)備In-Line PECVD system for HIT junctions用于制備高效異質(zhì)結(jié)太陽電池的直線型等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)Throughput: 18Reel to Reel Cassette SystemCassette houses flexible material卷筒用于裝載柔性襯底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制備薄膜時，卷筒可由真空機(jī)器手從一個腔室輸送至另一個腔室Advantages 此沉積系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)- Eliminates cross-contamination 在制備多層膜器件時消除了交互摻雜影響- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制備薄膜時，能靈活控制各種運(yùn)轉(zhuǎn)沉積參數(shù)- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每個腔室可單獨(dú)維護(hù)，減少了停機(jī)非運(yùn)轉(zhuǎn)時Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8個腔室的團(tuán)簇型沉積系統(tǒng)15cm and 30cm webwidth柔性襯底的寬度可從15cm至30cmComputer controlled可完全由電腦程序控制操作運(yùn)行PECVD, HWCVD and Sputter capability制備方式包括等離子體和熱絲化學(xué)氣相沉積，及濺射Amorphous silicon- intrinsic and doped (n+ and p+ type).非晶硅本征和摻雜(n+ and p+ 型)膜。Nano (or micro) crystalline silicon (intrinsic and doped)納米（或者微晶）硅 (本征和摻雜)膜。Dielectrics (SiNx, SiOx)介質(zhì)薄膜(如SiNx, SiOx)。Transparent conducting oxides (ITO, AZO)透明導(dǎo)電薄膜 (如ITO，AZO)。Solar cells, TFT’s, imaging and memory devices etc. 太陽電池，非晶硅薄膜晶體管，電子成像和存儲器件等。In-house Cluster ToolSubstrate: 30x40cmDC, RF, pulsed-RF, VHF

品牌： 北京博遠(yuǎn) 型號： ETD-100AF 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：北京意力博通技術(shù)發(fā)展有限公司

儀器簡介：原理：ETD-100AF 是高真空熱蒸發(fā)式小型鍍膜機(jī)。采用電阻式蒸發(fā)原理，利用大電流加熱鉬舟或鎢絲藍(lán)或固定支架上的鍍膜材料，使其在高真空下蒸發(fā)，沉積在被鍍樣品上以獲得最佳鍍膜效果。適用范圍： 電子顯微鏡樣品制備和清潔光欄，以及科研、教學(xué)和企業(yè)中的實驗活動、工藝試驗。技術(shù)參數(shù)：配置和參數(shù)：* 真空室： 直徑230mm，高度：280mm * 靶材料： 碳、金等。 * 電極(兩對)： 一對用于鉬舟或鎢絲欄，一對蒸碳。 * 最大電流： 100A * 最大電壓： 10V * 極限真空： 1×10 Pa * 工作真空： 2×10 Pa * 加熱功率： 1000W* 機(jī)械泵：4 升/每秒，AC 220V/50Hz * 復(fù)合分子泵： 600升/秒，AC 220V/50Hz(風(fēng)冷)主要特點(diǎn)：特點(diǎn)：使用了大抽速、高壓縮比、自然風(fēng)冷卻復(fù)合分子泵，確保噴鍍時能夠迅速抽掉蒸發(fā)源和樣品放出的氣體；正常情況下噴鍍室內(nèi)極少有油蒸氣回流，非常清潔?？烧舭l(fā)的材料： 碳、金等。

品牌： 英國Cressington 型號： Cresstington 108Auto/208HR 產(chǎn)地：英國 供應(yīng)商：溢鑫科創(chuàng)科技集團(tuán)

Cressington 108Auto/208HRSPUTTER COATER 超高分辨濺射鍍膜儀分子泵超高分辨鍍膜，放大倍率可到30-60萬倍也不會看到鍍膜顆粒，適用于現(xiàn)階段超高分辨場發(fā)射或雙束電鏡使用如FEI Nova,Megglen,Verios,Helios等; Hitachi SU8000,SU8200,S4800,9000等; JEOL 7600F 7800F等; ZEISS Merlin,Ultra,Auriga;?專利磁控冷態(tài)噴鍍專利冷態(tài)鍍膜設(shè)計使用真正的“平衡磁控管”沒有等離子體電流在樣品，在得到高分辨非晶鍍膜層同時避免樣品受到熱損傷，對熱損傷或輻照損傷敏感樣品尤為適合?廣泛的鍍層靶材選擇特殊雙極磁控管頭設(shè)計和有效的氣體離子處理使得208HR擁有廣泛多種鍍層靶材選擇?全自動化設(shè)計自動的換氣與泄氣功能，濺射電流和電壓通過磁控頭的傳感線監(jiān)控，蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制保證了均勻一致的膜厚，和最佳的導(dǎo)電噴鍍效果。?超高精度膜厚監(jiān)控設(shè)計使用可選MTM-20全自動高分辨膜厚監(jiān)控儀可優(yōu)化設(shè)計鍍膜條件達(dá)到0.1nm膜厚可控效果?多用途樣品托設(shè)計獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)，水平和傾斜 3軸移動設(shè)計優(yōu)化了多樣品以及不規(guī)則樣品的均勻一直鍍膜?可變的樣品室?guī)缀卧O(shè)計為了優(yōu)化鍍層結(jié)構(gòu)樣品室?guī)缀卧O(shè)計可用于調(diào)整噴鍍速度從1.0納米每秒到0.002納米每秒?廣泛的操作氣體壓力獨(dú)立的電壓，電流以及壓力回路控制系統(tǒng)允許可操作氬氣壓力從0.2-0.005mbar真空度?緊湊型時尚桌面式設(shè)計節(jié)能，緊湊設(shè)計消除了對于樓層空間要求，水要求和專業(yè)電氣連接要求鍍膜不同多樣樣品超高分辨208HR鍍膜系統(tǒng)現(xiàn)在針對噴鍍不同電鏡樣品提供了最理想的解決方案。為了減小噴鍍晶粒尺寸影響，208HR提供一套全系列的鍍膜靶材材料和前所未有的膜厚鍍層控制條件。為了更小優(yōu)化充電效果，208HR的特殊樣品臺設(shè)計和大范圍的操作壓力提供了高精度的鍍膜一致性和統(tǒng)一性。 高低樣品室的配置也提供了更為方便的工作距離調(diào)整?？烧{(diào)式旋轉(zhuǎn)傾斜水平樣品臺超高分辨全自動膜厚監(jiān)控儀 MTM-20208HR超高分辨鍍膜儀技術(shù)規(guī)格：樣品倉尺寸： 150mm 直徑， 可調(diào)高度： 165mm - 250mm，高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu)濺射管頭：低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩噴鍍靶材：鉻，鉑/鈀 標(biāo)配， 金，鎢，銅，鋁，銥，銀等選配，其他材料按客戶需求提供濺鍍優(yōu)點(diǎn)：基于微處理器反饋控制，遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng)；提供真空安全聯(lián)鎖裝置，最大180A，配有過流保護(hù)，數(shù)字化可選電流（20，40，60 或80毫安）樣品臺：可放置12個標(biāo)準(zhǔn)EM樣品座，0到90度傾斜可調(diào)的旋轉(zhuǎn)水平樣品座，石英晶體探頭模擬計量：真空 Atm - 0.001mb 電流: 0 100mA控制方式： 全自動噴鍍控制，自動卸真空自動進(jìn)氣功能，使用可編程電壓控制和計時數(shù)字計時 (0 300秒)以及暫停設(shè)計；全自動真空監(jiān)測系統(tǒng)真空系統(tǒng)： 標(biāo)配無油分子泵真空以及機(jī)械泵真空系統(tǒng)，泵抽速達(dá)到每秒80L，1.5分鐘內(nèi)抽到真空度到1x10-4 mbar, 極限真空優(yōu)于5x10-6 mbar，附帶減震臺的桌面式真空泵設(shè)計，全金屬耦合系統(tǒng)全自動超高分辨膜厚監(jiān)控儀技術(shù)規(guī)格：MTM-20 基于微處理控制，4位顯示系統(tǒng)，6MHZ晶體監(jiān)探器，每秒5次實時監(jiān)控 MTM-20膜厚監(jiān)控范圍： 0到999.9納米分辨率： 優(yōu)于0.1納米密度范圍：0.50到30.00gm/cm3安裝環(huán)境要求：電源：200-240 VAC, 50/60Hz功率：550VA氬氣要求：99.99% 純氬氣，壓力設(shè)定0.5/0.6 bar, 6.0mm管路接口設(shè)備尺寸：寬600mm， 深600mm，高450mm, 重量40kG 備注：為保證銷售渠道正規(guī)，配套方案先進(jìn)及統(tǒng)一的市場管理和售后服務(wù)，英國cressington在各個國家都只設(shè)唯一授權(quán)代理，中國官方授權(quán)總代為：溢鑫科創(chuàng)Yi Xin Technology，詳細(xì)信息請參考英國原廠官方網(wǎng)址:

品牌： 沈陽科晶 型號： VTC-100PA 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

VTC-100PA真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)適用于半導(dǎo)體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機(jī)可用于強(qiáng)酸、強(qiáng)堿性涂覆溶液的涂膜制備。主要特點(diǎn)1、真空吸附方式固定樣件，操作簡便。2、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置，以減少偏心而造成的震動或飛片。3、根據(jù)樣件規(guī)格可以配用不同的吸盤，且更換方便簡單。4、設(shè)有12組程序，每組包含6個運(yùn)行階段。5、電機(jī)啟動快速穩(wěn)定，可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。技術(shù)參數(shù)1、電機(jī)功率：50W/24V2、速度范圍：500-10000rpm3、程序運(yùn)行：可儲存12組程序，每組程序包含6個運(yùn)行階段4、增減速率設(shè)置范圍：100rpm/s-2000rpm/s5、時間范圍：0-60s6、吸盤：Φ19mm、Φ60mm7、本機(jī)可選配加熱功能1）加溫范圍：室溫150℃2）加熱蓋，水槽及吸盤采用耐高溫材質(zhì)聚四氟3）溫度單獨(dú)控制，與主機(jī)程序控制無關(guān)聯(lián)產(chǎn)品規(guī)格尺寸：450mm×280mm×340mm重量：20kg標(biāo)準(zhǔn)配件1、真空吸盤（含O型圈）2、中心定位器（含4個定位柱）3、滴膠注射器（20ml）4、注射器支架5、無油真空泵6、橡膠管（含卡箍）可選配件過濾器（真空泵用）

品牌： 沈陽科晶 型號： PTL-HT 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

PTL-HT高溫提拉涂膜機(jī)能夠提供溫度高達(dá)1000℃的提拉涂膜環(huán)境，廣泛用于各種高溫提拉涂膜研究。例如，陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜。本機(jī)能夠適應(yīng)未來高溫條件下成膜技術(shù)的發(fā)展需要。主要特點(diǎn)1、普通提拉涂膜機(jī)都是提供200℃以下的溫度環(huán)境，本機(jī)可以提供1000℃以下的高溫環(huán)境，便于特殊材料的涂膜制備。2、可以在氮?dú)?、氬氣等惰性保護(hù)氣體氣氛中使用，也可以在氧化氣氛中使用。3、設(shè)有三段溫區(qū)，且每段提拉速度均為無級調(diào)整。4、采用彩色觸摸控制屏，方便數(shù)據(jù)輸入，操作簡單快捷。5、已通過CE認(rèn)證。技術(shù)參數(shù)1、電源：220V2、功率：3KW（包括加熱部分）3、提拉速度：1-200mm/min4、溫度：RT-800℃產(chǎn)品規(guī)格尺寸：560mm×470mm×1550mm標(biāo)準(zhǔn)配件1、載樣架2、載料杯3、高溫提拉絲可選配件特殊提拉卡具

品牌： 沈陽科晶 型號： PTL-MM01 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

PTL-MM01提拉涂膜機(jī)通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。本機(jī)采用單板機(jī)控制，運(yùn)行平穩(wěn)準(zhǔn)確，是大專院校、研究院所實驗室的理想設(shè)備。主要特點(diǎn)1、可配用高達(dá)200℃恒溫箱，提供穩(wěn)定的恒溫環(huán)境進(jìn)行提拉涂膜。2、已通過CE認(rèn)證。技術(shù)參數(shù)1、電源：220V2、功率：50W3、提拉速度：1-200mm/min4、速度穩(wěn)定性：±0.05%5、樣件尺寸：75mm×25mm×2.5mm產(chǎn)品規(guī)格尺寸：320mm×260mm×560mm重量：18kg標(biāo)準(zhǔn)配件1、防擺動控制座2、樣件夾具3、載料杯4、提拉絲可選配件1、快速樣件夾具2、提拉絲

品牌： 沈陽科晶 型號： PTL-MM02 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

PTL-MM02程控提拉涂膜機(jī)是專為研究液相外延薄膜而設(shè)計的，通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。本機(jī)采用PLC程序控制，可設(shè)定提拉速度、停留時間、入液速度、循環(huán)次數(shù)。主要特點(diǎn)1、采用彩色觸摸屏，方便參數(shù)設(shè)置及調(diào)整。2、已通過CE認(rèn)證。技術(shù)參數(shù)1、提拉速度：1-200mm/min2、速度穩(wěn)定性：±0.05%3、樣件尺寸：75mm×25mm×2.5mm產(chǎn)品規(guī)格尺寸：320mm×260mm×560mm重量：17kg標(biāo)準(zhǔn)配件1、樣件夾具2、載料杯3、提拉絲

品牌： 沈陽科晶 型號： PTL-MM02-8P 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

PTL-MM02-8P提拉涂膜機(jī)是專為研究液相生長薄膜而設(shè)計的精密設(shè)備，通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜，廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所等研究領(lǐng)域。本機(jī)采用高精度速度控制系統(tǒng)，以及觸摸屏參數(shù)輸入端，同時實現(xiàn)5個樣件提拉涂膜的全自動控制。主要特點(diǎn)1、8個工位可分別設(shè)置不同的提拉速度、停留時間、干燥時間2、適用范圍廣。技術(shù)參數(shù)1、電源：220V 50Hz2、X軸速度：500-5000mm/min3、Z軸速度：1-200mm/min4、行程：65mm5、樣件尺寸：75mm×25mm×2.5mm6、同時提拉樣件數(shù)量：5個7、提拉工位：8個8、停留、干燥時間：1-999s9、循環(huán)次數(shù)：1-999次產(chǎn)品規(guī)格尺寸：900mm×520mm×540mm重量：20kg標(biāo)準(zhǔn)配件1、載料杯固定板2、夾子固定板3、載料杯4、夾子5、防護(hù)罩可選配件1、可根據(jù)您的需要訂做不同尺寸的載料杯及載料杯固定架2、恒溫水箱（功率：800W；恒溫溫度：RT-70℃；溫度精度：不考慮環(huán)境影響為±1℃；容積：25L）

品牌： 沈陽科晶 型號： PTL-MM02-200 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

PTL-MM02-200程控垂直提拉涂膜機(jī)是專為研究液相生長薄膜而設(shè)計的精密設(shè)備，通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。本機(jī)采用高精度速度控制系統(tǒng)，以及觸摸屏參數(shù)輸入端，實現(xiàn)提拉涂膜全過程的自動控制。主要特點(diǎn)可設(shè)定提拉速度、停留時間、入液速度、循環(huán)次數(shù)。技術(shù)參數(shù)1、電源：220V2、提拉速度：1-200mm/min3、速度穩(wěn)定性：±0.05%4、行程：270mm5、樣件尺寸：310mm×260mm 厚度1-5mm6、提拉負(fù)荷：≤5.5kg標(biāo)準(zhǔn)配件1、控制盒2、浸液槽

品牌： 沈陽科晶 型號： PTL-MMB01 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

PTL-MMB01恒溫提拉涂膜機(jī)是專為研究液相外延薄膜而設(shè)計的，在恒溫環(huán)境中，通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。主要特點(diǎn)1、提供穩(wěn)定的恒溫提拉涂膜環(huán)境。2、已通過CE認(rèn)證。技術(shù)參數(shù)1、提拉速度：1-200mm/min2、速度穩(wěn)定性：±0.05%3、溫度：RT-100℃4、樣件尺寸：75mm×25mm×2.5mm產(chǎn)品規(guī)格尺寸：450mm×500mm×970mm標(biāo)準(zhǔn)配件1、樣件夾具2、載料杯3、提拉絲

品牌： 沈陽科晶 型號： PTL-MMB02-200 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

PTL-MMB02-200恒溫垂直提拉涂膜機(jī)是專為研究液相生長薄膜而設(shè)計的精密設(shè)備，在恒溫場內(nèi)通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。本機(jī)采用高精度速度控制系統(tǒng)，以及觸摸屏參數(shù)輸入端，實現(xiàn)提拉涂膜全過程的自動控制。主要特點(diǎn)由驅(qū)動器細(xì)分兩相混合式步進(jìn)電機(jī)的步進(jìn)角度。技術(shù)參數(shù)1、電源：220V 50Hz2、加熱功率：2.3KW3、提拉速度：1-200mm/min4、行程：250mm5、溫度：80℃-200℃6、溫度精度：±1.5℃7、熔斷器：15A8、樣件尺寸：407mm×229mm 厚度1-10mm9、提拉負(fù)荷：≤5kg產(chǎn)品規(guī)格尺寸：636mm×680mm×1520mm標(biāo)準(zhǔn)配件1、控制盒2、浸液槽

品牌： 沈陽科晶 型號： PTL-OV5P 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

PTL-OV5P全自動5工位恒溫提拉涂膜機(jī)用于同一樣件在不同液相中的多層涂膜，最多可達(dá)到5層。本機(jī)廣泛用于納米、化工、金屬等材料領(lǐng)域，更是廣大高等院校、研究院所涂膜的理想設(shè)備。主要特點(diǎn)1、采用觸摸控制屏，根據(jù)實際需要設(shè)置提拉速度、下降速度、停留時間。2、涂膜全程處在恒溫環(huán)境中。3、完成一種液相涂層后，自動轉(zhuǎn)入下一工序。4、5工位液相載盤按照程序自動旋轉(zhuǎn)。5、已通過CE認(rèn)證。技術(shù)參數(shù)1、提拉速度：1-200mm/min2、速度穩(wěn)定性：±0.05% 3、溫度：RT-100℃4、樣件尺寸：75mm×25mm×2.5mm產(chǎn)品規(guī)格尺寸：450mm×500mm×1060mm重量：45kg標(biāo)準(zhǔn)配件1、涂膜卡具2、載料杯（150ml）3、提拉絲

品牌： 沈陽科晶 型號： PTL-OV6P 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

PTL-OV6P 6工位提拉涂膜機(jī)在相同外界條件下，對多個樣件在不同液相中進(jìn)行提拉涂膜，主要用于納米材料研究、表面處理及其它材料的提拉涂膜。主要特點(diǎn)1、設(shè)有6個工位，適合一次多個樣件的提拉涂膜。2、采用程控提拉速度、浸沒時間、干燥時間。3、已通過CE認(rèn)證。技術(shù)參數(shù)1、電源：220V2、功率：800W3、提拉速度：1-200mm/min4、溫度：RT-100℃5、載料杯：Φ60mm 150ml6、樣件尺寸：50mm×25mm×2.5mm產(chǎn)品規(guī)格尺寸：450mm×500mm×1060mm重量：40kg標(biāo)準(zhǔn)配件1、涂膜卡具2、載料杯3、提拉絲可選配件多種卡具

品牌： 沈陽科晶 型號： PTL-UMB 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

PTL-UMB微米級恒溫提拉涂膜機(jī)是以微米為計量、專為在液相中提拉涂膜而設(shè)計的，通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。本機(jī)采用PLC程序控制系統(tǒng)，以彩色觸摸屏為數(shù)據(jù)輸入輸出端，顯示提拉速度、提拉高度、提拉往返次數(shù)、間隔時間等參數(shù)。主要特點(diǎn)1、采用彩色觸摸屏，界面清晰，方便參數(shù)設(shè)置。2、提拉涂膜的全過程在恒溫溫度場內(nèi)進(jìn)行，有利于薄膜形成及固化。3、操作安全可靠，簡單易懂。4、已通過CE認(rèn)證。技術(shù)參數(shù)1、電源：220V2、提拉速度：1μm/s-500μm /s3、速度穩(wěn)定性：±0.05%4、溫度：RT-100℃5、樣件尺寸：75mm×25mm×2.5mm產(chǎn)品規(guī)格尺寸：450mm×500mm×970mm標(biāo)準(zhǔn)配件1、涂膜卡具2、載料杯3、提拉絲

品牌： 沈陽科晶 型號： SPC-1 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

SPC-1微型絲印涂層機(jī)是一款手動精密的絲網(wǎng)印刷機(jī)和電路涂布機(jī)，最大印刷面積為70mm×50mm，可精確的調(diào)整X、Y、Z三個方向，采用真空襯底方便裝卸。主要特點(diǎn)1、可在絲網(wǎng)框架內(nèi)快速更換所需絲網(wǎng)。2、配有適用于印刷材料的刮板。技術(shù)參數(shù)1、絲網(wǎng)印刷面積：最小16mm×12mm，最大70mm×50mm2、位置調(diào)整及精度：X、Y、Z三個方向可調(diào) X方向20mm，±0.01mm Y方向20mm，±0.01mm Z方向3mm，±0.05mm3、絲網(wǎng)角度調(diào)整：±10°可調(diào)4、基片支架：真空襯底5、絲網(wǎng)框架：上部框架外側(cè)180mm×130mm，里側(cè)156mm×106mm 底部框架外側(cè)125mm×108mm，里側(cè)105mm×88mm 絲網(wǎng)框架外側(cè)180mm×130mm，里側(cè)126mm×109mm產(chǎn)品規(guī)格尺寸：關(guān)閉上部框架時300mm×240mm×170mm，開啟上部框架時300mm×240mm×330mm重量：11kg可選配件真空泵

品牌： 沈陽科晶 型號： GSL-1800X-ZF4 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al、Au等），也可蒸鍍各種氧化物材料。本機(jī)設(shè)有4個蒸鍍加熱舟，且每個蒸鍍舟都帶有擋板。若更改部分配置也可實現(xiàn)對有機(jī)材料的蒸發(fā)鍍膜，可滿足發(fā)光器件及有機(jī)太陽能電池方面的研究要求，是一款鍍膜效果理想且性價較高的實驗設(shè)備。主要特點(diǎn)1、真空控制單元全部集合在一個控制盒內(nèi)。2、采用獨(dú)立的蒸鍍電流控制器，操作方便快捷。3、真空腔體設(shè)有1個KF40旁抽閥（直接與前級機(jī)械泵相連，方便快速取放樣品，提高效率）、1個CF150閘板閥（直接與 分子泵相連）、1個KF16法蘭（安裝電阻規(guī)）、5個CF35法蘭（1個安裝電離規(guī)，4個備用，便于安裝其他設(shè)備）。4、在腔體底部配有5個水冷電極，可支持4個蒸鍍加熱舟。5、4個蒸鍍加熱舟上方配有獨(dú)立的可移動擋板，有效地避免蒸發(fā)時相互污染。6、樣品臺安裝在腔體的頂部。7、腔內(nèi)可裝高分辨率的薄膜測厚儀，精度為10埃。8、可使用循環(huán)水冷機(jī)。技術(shù)參數(shù)1、輸入：單相AC220V，50/60Hz，最大功率≤3.2KW2、蒸發(fā)輸出：電壓AC0-8V連續(xù)可調(diào)，最大蒸發(fā)電流200A3、真空腔：Φ300mm（內(nèi)徑）×400mm，不銹鋼，內(nèi)壁經(jīng)電拋光處理4、腔門：Φ200mm5、觀察窗：Φ95mm，采用無氧銅密封圈密封6、真空泵：高抽速渦輪分子泵，抽速600L/s7、真空度：5.0×10-6torr（泵開啟40min后）8、極限真空度：5.0×10-7torr （加熱溫度為100℃-150℃）9、漏率：5.0×10-7Pa/s10、樣品臺：Φ140mm11、蒸發(fā)舟與樣品臺間距：260mm12、冷卻水需量：15L/min產(chǎn)品規(guī)格尺寸：650mm×1200mm×1600mm重量：600kg

品牌： 沈陽科晶 型號： OTF-1200X-RTP-II 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門用于PVD或CSS法制作薄膜；其爐管外徑為11″，爐管內(nèi)載樣盤可放置3″的圓形或2″×2″的方形基片；加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體頂端和底部，升溫速率高達(dá)20℃/s；溫控系統(tǒng)采用PID30段程序化控制，控溫精度為±1℃，并且儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內(nèi)配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。主要特點(diǎn)1、為了減小熱輻射和達(dá)到快速冷卻的效果，加熱元件被嵌在水冷機(jī)構(gòu)上。2、緊貼頂部加熱元件上裝有一氮化鋁基片（Φ76mm×0.5mm），使得樣品基片上的溫度更加均勻。3、3″的石墨坩堝可放于底部加熱元件上，用于盛放蒸發(fā)料。4、真空法蘭通過兩個硅膠O型圈進(jìn)行密封，通過機(jī)械泵其腔內(nèi)真空度可達(dá)10-2torr，通過分子泵真空度可達(dá)10-5torr。5、兩個真空法蘭都可以通過手動操作進(jìn)行上下移動。6、一個數(shù)字式真空顯示計安裝在法蘭頂部，可以精確測量腔內(nèi)真空度。技術(shù)參數(shù)1、電源：單相AC208-240V（需20A的空氣開關(guān)）2、真空腔體：高純石英管，外徑280mm，內(nèi)徑275mm，高229mm3、加熱元件：兩組IR紅外燈管，額定功率800W，總功率1600W4、熱電偶：S型熱電偶2個，分別安裝于上下法蘭上5、工作溫度：兩個加熱區(qū)域單獨(dú)工作的最高溫度≤650℃，兩加熱區(qū)域最大溫差≤350℃6、加熱速率： 8℃/s7、冷卻速率： 10℃/s（600℃-100℃）8、真空法蘭：316不銹鋼制作，配有1個KF-25接口、2個1/4″軟管接頭9、真空計：數(shù)字式真空顯示計可選配件1、PC控溫軟件 2、兩路混氣系統(tǒng)3、多路浮子混氣系統(tǒng)4、多路質(zhì)子混氣系統(tǒng)5、真空泵6、水冷機(jī)

品牌： 沈陽科晶 型號： GSL-1100X-SPC-16 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可達(dá)300埃，特別適用于SEM樣品的鍍膜。主要特點(diǎn)1、設(shè)有真空表、濺射電流表，可實時監(jiān)控工作狀態(tài)。2、通過調(diào)節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需要的電離氣體，以獲得最佳鍍膜效 果。3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計，可保證長期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象。4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。5、根據(jù)電場中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。6、已通過CE認(rèn)證。技術(shù)參數(shù)1、電源：220V2、總功率： 2000W（包括真空泵）3、真空室：Φ160mm×120mm4、樣品臺：Φ50mm，且高度可調(diào)，可同時進(jìn)行8個SEM樣品的鍍膜5、最大均勻鍍膜：Φ45mm產(chǎn)品規(guī)格尺寸：400mm×300mm×400mm重量：30kg標(biāo)準(zhǔn)配件1、金靶材2、進(jìn)氣針閥3、保險絲可選配件金、銦、銀、鉑等各種靶材

品牌： 沈陽科晶 型號： GSL-1100X-SPC-16-3 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計而成的最簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。本機(jī)特別之處是在一個真空室內(nèi)安裝了三個靶，旋轉(zhuǎn)樣品臺可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實驗電極的制作。主要特點(diǎn)1、設(shè)有真空表、濺射電流表，可實時監(jiān)控工作狀態(tài)。2、通過調(diào)節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需要的電離氣體，以獲得最佳鍍膜效 果。3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計，可保證長期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象。4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。5、根據(jù)電場中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。6、已通過CE認(rèn)證。技術(shù)參數(shù)1、靶：Φ45mm2、真空室：Φ160mm×120mm3、最高真空度：≤4×10-2mbar4、靶位：3個5、最大電流：50mA6、可設(shè)定最長時間：900s7、微型真空氣閥：連接Φ3mm軟管8、最高電壓： 1600V DC9、機(jī)械泵：2L/s標(biāo)準(zhǔn)配件1、金靶材2、銀靶材3、鋁靶材4、進(jìn)氣針閥5、保險絲可選配件金、銦、銀、鉑等各種靶材

品牌： 沈陽科晶 型號： GSL-1100X-SPC-16C 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀配備了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或其他金屬單質(zhì)的薄膜。本機(jī)能夠滿足掃描電子顯微鏡樣品的制備和非導(dǎo)體材料實驗電極的制作，也可以用于材料研究中各種新材料性能的實驗。主要特點(diǎn)配備了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲或者其他材料，如鋁、不銹鋼等材料，同時具有濺射和蒸發(fā)的功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡樣品的制備。技術(shù)參數(shù)1、靶：Φ50mm2、樣品臺：Φ50mm3、真空室：Φ160mm×110mm4、真空度：4×10-1mbar-2×10-2mbar5、最大電流：50mA6、可設(shè)定最長時間：9999s7、最高電壓：1600V DC可調(diào)8、真空泵：4L兩級機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵，極限真空2×10-2mbar標(biāo)準(zhǔn)配件1、金靶材2、碳繩3、鎢絲籃4、熱蒸發(fā)附件5、進(jìn)氣針閥6、保險絲可選配件金、銦、銀、白金等各種靶材

品牌： 沈陽科晶 型號： GSL-1100X-SPC-16M 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計而成的最簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備，適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實驗電極的制作。主要特點(diǎn)1、設(shè)有真空表、濺射電流表，可實時監(jiān)控工作狀態(tài)。2、通過調(diào)節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需要的電離氣體，以獲得最佳鍍膜效 果。3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計，可保證長期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象。4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。5、根據(jù)電場中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。6、濺射頭采用Peltier制冷技術(shù)，可得到高性能、精細(xì)顆粒的涂層。7、可用水冷濺射頭、水冷載物臺。技術(shù)參數(shù)1、靶：Φ50mm2、真空室：Φ160mm×120mm3、最高真空度：≤4×10-2mbar4、最大電流：50mA（100mA）5、可設(shè)定最長時間：9999s6、微型真空氣閥：連接Φ3mm軟管7、最高電壓：1600V DC8、機(jī)械泵：2L/s產(chǎn)品規(guī)格尺寸：360mm×300mm×380mm標(biāo)準(zhǔn)配件1、金靶材2、進(jìn)氣針閥3、保險絲可選配件金、銦、銀、鉑等各種靶材

品牌： 沈陽科晶 型號： GSL-1100X-SPC-15E-LD 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀特別適合蒸鍍一些輕金屬，如、Al、Mg、和Li等；同時也可對樣品進(jìn)行鍍碳處理，最大可處理的樣品直徑為50mm。主要特點(diǎn)1、配有直連式雙旋機(jī)械泵（裝有油污過濾器和防回油裝置），可使真空腔體真空度達(dá)到10-2torr。2、配有KF25波紋管和卡箍。3、可進(jìn)行鍍碳處理。4、已通過CE認(rèn)證。技術(shù)參數(shù)1、輸入電壓：AC208V-240V 50/60Hz2、功率： 2000W3、真空腔體：熔融玻璃管，Φ160mm×110mm4、載物臺：Φ50mm5、最大蒸鍍區(qū)域：Φ45mm6、鎢絲舟：3個7、真空度：≤10-2torr（雙旋機(jī)械泵）產(chǎn)品規(guī)格尺寸：360mm×300mm×380mm重量：50kg標(biāo)準(zhǔn)配件1、鎢絲舟2、碳纖維注意事項1、對于蒸鍍對氧較敏感的材料，建議使用渦旋分子泵。2、為了達(dá)到較高的無氧環(huán)境，至少要用高純惰性氣體對真空腔體清洗3次。

品牌： 沈陽科晶 型號： GSL-1100X-SPC-12 產(chǎn)地： 供應(yīng)商：沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

GSL-1100X-SPC-12等離子薄膜濺射儀專門為在基底上鍍金屬膜（如金、鉑、銦、銀等）而設(shè)計，最大放置樣品尺寸直徑為40mm，膜厚可達(dá)300?，特別適用于為SEM樣品鍍金而作為導(dǎo)電極。主要特點(diǎn)1、可以調(diào)節(jié)電流大小，可設(shè)置濺射時間。2、已經(jīng)過CE認(rèn)證。技術(shù)參數(shù)1、輸入電源：208V-240V 50Hz/60Hz2、樣品臺：Φ60mm，高度可調(diào)節(jié)3、石英腔體：Φ100mm×130mm4、進(jìn)氣口：內(nèi)部裝有閥門，可以向腔體內(nèi)通入各種氣體5、靶材：純度為4N的金靶，Φ57mm×0.12mm 產(chǎn)品規(guī)格尺寸：480mm×320mm×150mm重量：20kg可選配件1、Au（Φ57mm×0.12mm，4N）2、Pt（Φ57mm×0.12mm，4N）3、Ag（Φ57mm×0.5mm,4N）

品牌： 英國Quorum 型號： SC7620 產(chǎn)地：英國 供應(yīng)商：南京覃思科技有限公司

儀器簡介：SC7620濺射鍍膜儀英國Quorum的SC7620是一臺結(jié)構(gòu)緊湊、價格低廉的磁控離子濺射鍍膜儀。如與鍍碳附件(CA7625F)結(jié)合使用，為理想的低價位掃描電鏡濺射、鍍碳系統(tǒng)。SC7620耐用、易操作。SC7620適合預(yù)算有限、需要高質(zhì)量鍍膜、儀器易操作的用戶。對于常規(guī)應(yīng)用,SC7620具有φ100(4″)的玻璃腔室，使用磁控濺射頭，帶有易更換的圓片靶（標(biāo)配為金/鈀合金）。濺射頭為方便的鉸鏈?zhǔn)?，并具有電安全互鎖裝置。高壓電纜帶有屏蔽功能，以預(yù)防意外損壞。通過氬氣針閥調(diào)整真空度，以改變等離子電流；氣體注入系統(tǒng)可預(yù)設(shè)等離子放電。必備：推薦使用50l/m雙級旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵（E5005F），隨機(jī)配有油霧過濾器。如果想使用已有的旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵，確保它的容量為50l/m或更優(yōu)是非常重要的。可選附件-鍍碳儀SC7620可選配(CA7625F)鍍碳裝置，包括蒸發(fā)電源和碳絲頭。鍍碳附件很容易安裝。用碳絲頭替換鉸鏈?zhǔn)竭B接的濺射頭即可。為確保暴露在外的濺射頭不被供電，安裝了機(jī)電互鎖裝置，以確保濺射頭斷電。SC7620定單信息選擇靶金/鈀合金作為標(biāo)配。與金相比，顆粒更細(xì)。金：通常為首選。鉑：濺射顆粒尺寸比金和金/鈀合金還要細(xì)小。濺射速率減慢，價格比金和金/鈀合金昂貴一些。銀：與其它金屬比較，銀鍍層容易取下，較適用于博物館和法院的樣品鍍膜。鈀：用于X-射線微量分析時，常用來取代金、金/鈀和鉑。請訪問:www.tansi.com.cn查看詳細(xì)資料技術(shù)參數(shù)：靶所有的靶尺寸均為57mm直徑x0.1mm厚（除非另外指定）SC502-314A 金靶SC502-314B 金/鈀合金靶SC502-314E 銀靶SC502-314F 鈀靶SC502-314A/0.2MM 金靶，厚度0.2mmSC502-314B/0.2MM金/鈀合金靶，厚度0.2mmSC502-314C/0.2MM鉑靶，厚度0.2mm泵E5005F 50 l/m雙級旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵，帶有油霧過濾器（115/230 50/60Hz）E5006 替換的油霧過濾器可根據(jù)要求選用其它的泵，可選用國產(chǎn)泵。鍍碳CA7625F蒸碳電源220 - 240V尺寸：340 x 355 x 375mm頭：帶有碳絲A0819(1m)的碳絲頭CA0762F主要特點(diǎn)：價格低易操作磁控濺射頭緊湊設(shè)計快速循環(huán)時間（典型為2-3分鐘）可選碳絲蒸鍍樣品臺高度可調(diào)快速換靶（標(biāo)配為金/鈀合金）符合所有新的安全標(biāo)準(zhǔn)：包括機(jī)電互鎖，以確保使用鍍碳附件時濺射頭斷電可靠耐用

品牌： 四川畢克 型號： BK802 產(chǎn)地：成都 供應(yīng)商：四川畢克科技有限公司

對干膜或濕膜的厚度進(jìn)行嚴(yán)格的控制。在做常規(guī)質(zhì)量控制及研究開發(fā)試驗時，涂料的遮蓋力、不透明性、耐擦洗能力、抗流掛性能及其它質(zhì)量試驗都要求有一個一致性好重復(fù)性佳的涂層。

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