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強生英特與ULVAC安PHI在應用程序招待會發(fā)行Excel重量級的產(chǎn)品

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2021-07-25  來源:儀器網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):46
核心提示:儀器信息網(wǎng)訊 在“2016年全國表面分析科學與技術(shù)應用學術(shù)會議”召開的前一天,即2016年8月10日,高德英特公司與ULVAC-PHI公司在昆明理工大學舉辦了“2016中國表面分析應用與學術(shù)用戶會議暨ULVAC-PHI最新技術(shù)說明會”。

  儀器信息網(wǎng)訊 在“2016年全國表面分析科學與技術(shù)應用學術(shù)會議”召開的前一天,即2016年8月10日,高德英特公司與ULVAC-PHI公司在昆明理工大學舉辦了“2016中國表面分析應用與學術(shù)用戶會議暨ULVAC-PHI最新技術(shù)說明會”。50余名ULVAC-PHI的用戶、以及從事表面分析技術(shù)研究與應用的專家學者參加了會議。

會議現(xiàn)場

  ULVAC-PHI 為全球?qū)I(yè)的表面分析儀器制造商,是唯一可提供四種表面成分分析設備的廠商。其產(chǎn)品包括光電子能譜儀(XPS),俄歇電子能譜儀(AES),飛行時間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)和動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀(D-SIMS)。據(jù)介紹,ULVAC-PHI旗下的XPS約占世界份額的60%,其產(chǎn)品定位于高端XPS,性能被行業(yè)內(nèi)專家學者認可,是目前唯一提供掃描聚焦型X-ray源的廠家,真正實現(xiàn)了XPS的微區(qū)分析能力。AES系統(tǒng)采用專利設計的筒鏡式(CMA)能量分析器,實現(xiàn)高空間分辨率、高靈敏度的同時,避免了表面形貌對俄歇成像的陰影效應。TOF-SIMS獨特的三重聚焦分析器(TRIFT Analyzer),能夠最大限度的提高二次離子質(zhì)譜的景深,對表面粗糙樣品也可輕松處理。與此同時,ULVAC-PHI提供最高靈敏度四級桿式D-SIMS,可高效快速完成動態(tài)SIMS分析。而且除了表面分析儀器以外,ULVAC-PHI還同時研發(fā)配置在相關(guān)儀器的外圍配件。

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ULVAC-PHI常務總監(jiān)木村市朗先生

  高德英特公司是ULVAC-PHI在中國區(qū)域銷售及售后服務的全權(quán)代表,二者于2007年建立了戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系。高德英特公司擁有8位資深技術(shù)支持工程師,全部得到原廠的資質(zhì)認證,能夠為用戶提供最完整的解決方案。 目前,ULVAC-PHI在中國的用戶主要包括清華大學、廈門大學、南京大學、南京理工大學、北京理工大學等國內(nèi)知名高校和院所。

  

高德英特公司總經(jīng)理陳文征博士

  木村市朗先生和陳文征博士分別致辭,共同表達了ULVAC-PHI和高德英特公司是一個團隊,代表了“PHI在中國”;并歡迎用戶對ULVAC-PHI的儀器和服務多提意見,今后將加強和用戶的交流。用戶會上,ULVAC-PHI和高德英特公司還鄭重感謝了20多年來給予PHI眾多幫助的曹立禮和劉慶華老師。在PHI的產(chǎn)品進入中國市場之初,兩位老師為了PHI儀器更好得到應用做出了杰出的貢獻。?

  ULVAC-PHI亞洲區(qū)銷售經(jīng)理柴崎琢自先生和高德英特公司中國區(qū)總監(jiān)葉上遠先生介紹了ULVAC-PHI在全球和中國的發(fā)展。同時,葉上遠先生與ULVAC-PHI的真田憲明博士、宮山卓也先生分別介紹了新產(chǎn)品、新技術(shù)、新應用。

  葉上遠先生介紹了ULVAC-PHI剛剛?cè)虬l(fā)布的多功能掃描XPS微探針PHI 5000 VersaProbe III。全新的VersaProbe III采用了獨特的聚焦X-ray源和全新的輸入透鏡、探測器,性能指標全面提升。VersaProbe III受專利保護的掃描聚焦X-ray源,可提供最小直徑小于10μm到400μm以上的各種X-ray光束,能更有效的分析微米級微區(qū)。令人影響深刻的是,相對于上一代產(chǎn)品Versaprobe II,新品的靈敏度提高了3倍。尤其在微區(qū)分析方面,相比于其他XPS,新品的靈敏度提高了100倍。VersaProbe III的多功能平臺為中國科研和研發(fā)領(lǐng)域的未來發(fā)展提供了廣大的可能,使得以XPS為核心的表面分析技術(shù)具有更多的分析可能和意義。

多功能掃描XPS微探針PHI 5000 VersaProbe III

  這次會上,ULVAC-PHI還推出了一項用于PHI nano TOF?II的MS/MS技術(shù)。關(guān)于該新技術(shù)的應用,葉上遠先生說到,過去對于201m/z處的峰是什么多是需要去“猜”,而現(xiàn)在有了MS/MS技術(shù),大家則可以完全確定的知道是什么。

PHI nano TOF?II的MS/MS技術(shù)

ULVAC-PHI亞洲區(qū)銷售經(jīng)理柴崎琢自先生

高德英特公司中國區(qū)總監(jiān)葉上遠先生

ULVAC-PHI真田憲明博士

ULVAC-PHI宮山卓也先生

  高德英特公司還邀請了勝科納米的華佑南博士、勀杰科技的劉伯緯先生作報告,二位都是ULVAC-PHI用戶,利用ULVAC-PHI的儀器做出了很多的有意義的工作。

勝科納米的華佑南博士

勀杰科技的劉伯緯先生

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關(guān)鍵詞: PHI ULVAC 分析 先生 技術(shù)
 
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