2017年8月10日，由PHI-China高德英特（北京）科技有限公司主辦的“ULVAC-PHI表面分析應用與技術用戶會”于汕頭大學圓滿結束。此次會議有清華大學、南京大學等國內各高校相關專業(yè)的多位老師與專家及學生參加.

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會議開始，PHI（China）的執(zhí)行總監(jiān)葉上遠先生首先致辭，歡迎全國從事表面分析研究與分析的新老朋友共聚一堂，共同探討XPS的前沿發(fā)展、分享最新應用、使用儀器的心得。隨后就PHI XPS粉末微區(qū)分析表征上的最新研發(fā)進展做了詳細的報告，并對“IPES 反光電子能譜UPS聯(lián)用的應用”和“ULVAC-PHI 儀器多種聯(lián)用技術”分別做了專題報告，得到了與會者的一致認可。 此外，此次會議還特邀臺灣中央研究院薛景中先生就“Ion gun co-sputtering XPS Applications X” 做了相關專題報告及學術探討。

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作為嘉賓的ULVAC-PHI 亞洲區(qū)銷售經理 Mr. Takuji Shibasaki 柴崎琢自先生就如何進行更好使用 “ULVAC-PHI Ellipsometer 橢偏儀”進行詳細介紹和說明。另一位嘉賓ULVAC-PHI原廠科學家張熏勻博士則對“Tof-SIMS 最新材料應用”相關研究進展做了細致詳盡的講解；并與會者分享“ XPS和AES數(shù)據(jù)處理技巧”，同時就大家一些問題做了熱烈、充分的討論。

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與會者一致認為，通過此次用戶會，對PHI公司及其產品有了更加深入的認識與了解，對科研過程中碰到的一些問題也有了新的思路與方法。 我們也感謝各位與會者的參與和支持，希望通過用戶交流會，為原廠、用戶和學校及科研機構搭建的技術交流和共享平臺，在此平臺中，老師們對相關領域的探討碰撞出更多的思維火花，并能在以后的科研中取得更多的新成果。 PHI與XPS研究者共同進步！