玻璃生成的熔體中的溫度分布

  熔體中的溫度分布是一個(gè)重要的工藝參數(shù)，它對(duì)整個(gè)玻璃的形成過程
、玻璃熔體的澄清和均勻化都有很大影響。熔體薪性的不均勻程度與熔體
中的溫度分布有關(guān)
  不同類型工業(yè)玻璃熔煉爐中熔體的溫度分布的計(jì)算。從另一方面來說
，熔體中的溫度場(chǎng)在從熔體中生長晶體時(shí)已被詳細(xì)研究。因?yàn)檫@個(gè)參數(shù)非
常重要，它決定著高質(zhì)量品體的生長條件。按喬赫拉爾斯基法生長晶體時(shí)
對(duì)熔體的溫度分布和流體動(dòng)力學(xué)，都進(jìn)行了數(shù)學(xué)模型方法的研究，對(duì)透明
的液體進(jìn)行了模型試驗(yàn)。
  在冷增禍中材料的直接高頻熔化法的主要特點(diǎn)是用高頻場(chǎng)能9對(duì)材料進(jìn)
行直接加熱，此時(shí)材料位于水冷的金屬增禍中

  顯然，當(dāng)熔體中的u度減小時(shí)，熔體中溫度梯度顯著降低的原因在于熔
體中對(duì)流攪拌的增強(qiáng)，其結(jié)果是溫度梯度逐漸趨平。
  實(shí)際上，在晶體生長的過程中，廣泛采用熱屏蔽，以在熔體表面形成
溫度梯度。為了說明熔體表面的熱屏蔽對(duì)熔體體積中溫度分布的影響，對(duì)3
號(hào)玻璃熔體進(jìn)行了試驗(yàn)。由耐火赫土材料制成熱屏蔽，安放在冷柑禍的邊
上。所有其他參數(shù)如熔體體積，相對(duì)于熔體表面的感應(yīng)線圈的位置，所需
的高頻發(fā)生器的功率，在試驗(yàn)中都是固定的。

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