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穆爾三維空間光學(xué)儀器輪廓儀在光學(xué)儀器應(yīng)用領(lǐng)域的一些應(yīng)用領(lǐng)域

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2021-05-11  來源:儀器網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):45
核心提示:      光學(xué)元件在各個(gè)領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用,對(duì)光學(xué)元件的表面加工精度提出越來越高的要求。如何檢測(cè)光學(xué)元件的加工精度,從而用于優(yōu)化加工方法,保證最終元器件的性能指標(biāo),是光學(xué)元件加工領(lǐng)域的關(guān)鍵問題之一。 

      光學(xué)元件在各個(gè)領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用,對(duì)光學(xué)元件的表面加工精度提出越來越高的要求。如何檢測(cè)光學(xué)元件的加工精度,從而用于優(yōu)化加工方法,保證最終元器件的性能指標(biāo),是光學(xué)元件加工領(lǐng)域的關(guān)鍵問題之一。

      光學(xué)元件的加工精度包括表面質(zhì)量和面型精度,這些參數(shù)會(huì)影響其對(duì)光信號(hào)的傳播,進(jìn)而影響最終器件的性能。此外,各種新型光學(xué)元件也需要檢測(cè)其表面輪廓,比如非球面,衍射光學(xué)元件,微透鏡陣列等。除了最終光學(xué)元件的加工精度以外,各種光學(xué)元件加工工藝也需要檢測(cè)中間過程的三維形貌以保證最終產(chǎn)品的精度,包括注塑、模壓的模具,光學(xué)圖案轉(zhuǎn)印時(shí)的掩膜版,刻蝕過程的圖案深度、寬度等。

 

布魯克的三維光學(xué)顯微鏡配備的雙光源技術(shù),同時(shí)實(shí)現(xiàn)白光干涉和相移干涉成像,適用于各種不同光學(xué)樣品、模具的三維形貌測(cè)量。在光學(xué)加工領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

設(shè)備可以用于光學(xué)元件表面質(zhì)量檢測(cè),可以通過表面粗糙度、表面斜率分布等判斷光學(xué)元件整體散射率,也可以統(tǒng)計(jì)局部的各種缺陷。

設(shè)備還可以用于各種光學(xué)元件的面型分析,除了手動(dòng)分析以外,軟件還提供了包括Zernike多項(xiàng)式擬合、非球面分析等功能。

由于該設(shè)備能準(zhǔn)確測(cè)量和分析光學(xué)元件,在多種先進(jìn)光學(xué)元件中得到廣泛應(yīng)用,包括光柵、菲涅爾透鏡和二元光學(xué)元件等衍射光學(xué)元件,以及微透鏡陣列等。

 

粗糙度作為衡量表面加工質(zhì)量的基本參數(shù),在光學(xué)加工領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。1961年Bennett and Porteus就觀察到當(dāng)表面粗糙度遠(yuǎn)小于入射波長(zhǎng)時(shí),散射率與Sq直接相關(guān)。因此Sq(Rq,RMS)在光學(xué)領(lǐng)域得到廣泛關(guān)注。公式也顯示,隨著入射波長(zhǎng)的降低(或者頻率的增加),Sq也需要隨之減小,以保持散射率不增加。因此在高頻即短波長(zhǎng)領(lǐng)域?qū)Υ植诙鹊臋z測(cè)更為重要。

 

白光干涉儀作為一種三維形貌測(cè)量設(shè)備,能準(zhǔn)確測(cè)量亞納米尺度的表面粗糙度。軟件還能根據(jù)各種相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),進(jìn)行表面形貌分析,獲得多種參數(shù),包括波紋度、翹曲等。

 

當(dāng)粗糙度遠(yuǎn)小于入射波長(zhǎng)時(shí),散射率與Sq直接相關(guān)。然而當(dāng)粗糙度較大時(shí),二者的關(guān)系就不太明顯。此時(shí),散射率與樣品表面斜率關(guān)系更大,需要用幾何光學(xué)模型描述。布魯克的軟件提供了多種表面斜率分析功能,用于研究表面斜率與散射率的關(guān)系。除了提供全局斜率分布以外,還能計(jì)算沿任意方向的斜率分布,用于研究表面在不同方向的散射性能。

 

各種光學(xué)元件對(duì)缺陷都有嚴(yán)格要求,包括缺陷尺寸、數(shù)量和分布等多有明確規(guī)定(如標(biāo)準(zhǔn)ISO10110系列)。布魯克的白光干涉儀提供了多種缺陷觀察和統(tǒng)計(jì)方法,可以自動(dòng)分析缺陷的各個(gè)指標(biāo)。

 

光學(xué)鏡片除了曲率半徑以外,還需要測(cè)量各種誤差。由于 Zernike多項(xiàng)式在圓域上具有正交性,并且各階模式與光學(xué)設(shè)計(jì)中的Seidel像差 (如:離焦、像散、 慧差等 )系數(shù)相對(duì)應(yīng),為有選擇地處理各種像差和優(yōu)化系統(tǒng)提供了有效途徑。因此Zernike多項(xiàng)式擬合在光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)和研發(fā)中廣泛應(yīng)用。布魯克的軟件既能通過設(shè)置Zernike系數(shù)生成三維曲面,也能從實(shí)際鏡片的三維形貌數(shù)據(jù)中計(jì)算Zernike系數(shù),并獲得不同階數(shù)擬合后的殘差。軟件可以設(shè)置多達(dá)36個(gè)系數(shù)。

 

球面鏡通常存在球差等光學(xué)誤差,會(huì)降低成像質(zhì)量。為了提高成像質(zhì)量,可以通過復(fù)雜設(shè)計(jì)的透鏡組降低誤差。然而現(xiàn)在更常用的是通過非球面設(shè)計(jì)來消除或降低這些誤差。非球面的曲率半徑處處變化,無法用單一的數(shù)值表示。因此需要獲得表面整體信息再分析。布魯克的三維光學(xué)輪廓儀可以根據(jù)非球面的子午線公式,通過自定義公式里的系數(shù)生成標(biāo)準(zhǔn)非球面,再用生成的標(biāo)準(zhǔn)非球面與實(shí)際樣品的表面形貌比較,從而檢測(cè)實(shí)際樣品的加工誤差。

 

從兩百年前的光柵開始,衍射光學(xué)元件(Diffractive Optical Elements,DOE)在各種領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。比如基于廣播的衍射理論設(shè)計(jì)的二元光學(xué)器件,在傳統(tǒng)光學(xué)元件表面刻蝕產(chǎn)生兩個(gè)或多個(gè)臺(tái)階深度的浮雕結(jié)構(gòu),形成純相位、同軸再現(xiàn)、具有極高衍射效率的一類衍射光學(xué)元件。

上個(gè)世紀(jì)末還出現(xiàn)了一種混合光學(xué)成像系統(tǒng),它既包括傳統(tǒng)光學(xué)器件,也含有衍射光學(xué)器件。這類系統(tǒng)同時(shí)利用了光的折射和衍射,不僅可以增加光學(xué)設(shè)計(jì)自由度,而且能夠在一定程度上突破傳統(tǒng)光學(xué)系統(tǒng)的許多局限性,在改善系統(tǒng)像質(zhì)、減小體積和降低成本等多方面都表現(xiàn)出了優(yōu)勢(shì)。

 

布魯克的三維光學(xué)顯微鏡能準(zhǔn)確測(cè)量、分析這些元件表面,加速這類元件的應(yīng)用速度。軟件可以自動(dòng)分析垂直的光柵結(jié)構(gòu),獲得光柵的周期、粗糙度、深度等信息,避免手動(dòng)測(cè)量帶來的人為誤差。對(duì)于菲涅爾透鏡,軟件可以從透鏡三維形貌中獲得每一級(jí)的間距、高度和曲率半徑等信息。軟件可以自動(dòng)測(cè)量并分析二元光學(xué)器件,獲得器件表面每個(gè)區(qū)域的高度、粗糙度、位置等參數(shù),用于評(píng)估加工樣品的質(zhì)量。其中,臺(tái)階數(shù)和臺(tái)階高度與衍射效率直接相關(guān)。隨著臺(tái)階數(shù)增加,制作難度也在增加。準(zhǔn)確測(cè)量各個(gè)臺(tái)階極為重要。

 

對(duì)于這類表面有各種結(jié)構(gòu)的光學(xué)元件,布魯克的軟件提供了多種自動(dòng)分析工具,比如多區(qū)域分析。它可以通過多種特征識(shí)別方式,自動(dòng)提取樣品表面各種結(jié)構(gòu)的三維信息,并做統(tǒng)計(jì)分析,獲得每個(gè)結(jié)構(gòu)的多種參數(shù)(如下圖所示)。

 

布魯克的三維光學(xué)輪廓儀從1983年Wyko產(chǎn)品發(fā)布至今一直處于業(yè)界較高地位,通過不斷推出創(chuàng)新技術(shù)服務(wù)客戶。

布魯克的三維光學(xué)輪廓儀具有業(yè)界較高的精度、重復(fù)性和效率,滿足光學(xué)領(lǐng)域?qū)Ρ砻嫘蚊矞y(cè)量和分析的極高要求。設(shè)備從硬件到軟件專門針對(duì)光學(xué)加工領(lǐng)域進(jìn)行設(shè)計(jì),滿足不同細(xì)分領(lǐng)域光學(xué)加工產(chǎn)品表面檢測(cè)的需要。

布魯克納米表面計(jì)量部持續(xù)推出各種新應(yīng)用,為本領(lǐng)域客戶創(chuàng)造價(jià)值。

 

 
 
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