高溫真空氣氛爐為真空爐的一種，以硅碳棒為加熱元件，爐體采用雙層爐殼結構，雙層風冷系統(tǒng)，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低，廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材等領域。 結構： 爐體部分：爐膛采用莫來石聚輕磚砌筑，爐膛內上下用碳化硅棚板，爐內溫度是加熱元件在加熱過程中經過碳化硅棚板傳導（暗火加熱），溫度更均勻。爐殼密封。為提高高溫真空氣氛爐的密封墊的使用壽命在爐門口設有循環(huán)水冷套以降低密封處的溫度。進氣設爐膛底部，經加熱腔預熱后分多處進入爐內，排氣經爐頂后部排出。保證爐內氣氛均勻，減小爐內溫差。 電氣部分：電氣部分采用與氣氛爐爐體體化結構，整個電氣元件安裝在爐體底部的側，結構緊湊、占用空間小。溫控安裝在爐體側面板上，觀察直觀，調節(jié)方便，溫控儀具有PID調節(jié)功能，可自動跟蹤設定PID值，可任意設定測量分度密碼，同時具備補償功能，可使爐膛溫度與顯示值致。 高溫真空氣氛爐滿足于不同工藝實驗而殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產設備。