產(chǎn)品名稱：

康寧7980上鍍Si3N4（Silicon Nitride Film (LPCVD) on Corning 7980）

產(chǎn)品簡介：

The Si3N4 film may have stressed induced micro-cracking resulted from the large difference of thermal expansion coefficient between Si3N4 and SiO2 fused silica

技術(shù)參數(shù)：Si3N4薄膜：鍍膜方法：low stress LPCVD method低壓力化學(xué)氣相沉積法膜層厚度：1.3um +/- 5%鍍膜情況：雙面鍍膜UV級石英 UV Grade Fused Silica (Corning 0F 7980 HPFS)：常規(guī)尺寸:dia100.0 (±0.20) mm x 0.5 (± 0.10) mm邊緣：CNC Ground表面質(zhì)量：60/40 失效區(qū)域： 2.0 mm borderTTV:  20 microns拋光情況：雙面拋光(60/40)

產(chǎn)品規(guī)格：

dia100x0.5mm；10x5x0.5mm；10x10x0.5mm

標準包裝：

1000級超凈室100級超凈袋或單片盒包裝

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注：對于醫(yī)療器械類產(chǎn)品，請先查證核實企業(yè)經(jīng)營資質(zhì)和醫(yī)療器械產(chǎn)品注冊證情況。