拓?fù)鋵W(xué)(topology)研究物體在連續(xù)變化下的行為。如果一個(gè)物體可以連續(xù)地變成另一個(gè)物體,那么它們拓?fù)涞葍r(jià);反之,拓?fù)洳坏葍r(jià)。在絕緣物質(zhì)相(phase of matter)的研究中,連續(xù)變化對(duì)應(yīng)的是絕熱(adiabatic)變化(即變化不會(huì)關(guān)閉能隙),因而兩個(gè)絕緣相是否拓?fù)涞葍r(jià)由絕熱變化的存在決定。如果一個(gè)相變發(fā)生在兩個(gè)拓?fù)洳坏葍r(jià)的絕緣相之間,那么它一定會(huì)關(guān)閉能隙。這種相變被稱為拓?fù)湎嘧儯╰opological phase transition)。
??????拓?fù)湎嘧円话銜?huì)引發(fā)某種物理響應(yīng)的突變,因此實(shí)驗(yàn)上可以通過測(cè)量這些突變來確認(rèn)拓?fù)湎嘧兊陌l(fā)生。一個(gè)眾所周知的例子是量子霍爾效應(yīng)中不同霍爾平臺(tái)間的相變是拓?fù)湎嘧儯凰鼤?huì)引發(fā)霍爾電導(dǎo)的突變。另外,量子自旋霍爾絕緣相和普通絕緣相之間的拓?fù)湎嘧儠?huì)引發(fā)兩端點(diǎn)電導(dǎo)(two-terminal conductance)的突變。很多突變的物理響應(yīng)(包括上述兩個(gè),以及很多其他的例子)都是由電磁場引發(fā)的。那么,除了材料對(duì)電磁場的響應(yīng)之外,是否還有其他類型的物理響應(yīng)在拓?fù)湎嘧儼l(fā)生時(shí)會(huì)出現(xiàn)突變,從而成為拓?fù)湎嘧兊囊粋€(gè)實(shí)驗(yàn)信號(hào)?
??????為了回答這個(gè)問題,本工作研究了壓電響應(yīng)在二維材料產(chǎn)生拓?fù)湎嘧兊淖兓l(fā)現(xiàn)壓電系數(shù)的確會(huì)出現(xiàn)一個(gè)突變,從而表征拓?fù)湎嘧兊陌l(fā)生。壓電響應(yīng)是指壓力(而非電磁場)引發(fā)的電響應(yīng),由壓電系數(shù)來衡量;壓電響應(yīng)的突變指的是壓電系數(shù)產(chǎn)生了突變。本工作研究的系統(tǒng)是有時(shí)間反演對(duì)稱性、有自旋軌道耦合且無相互作用的二維晶體。這類晶體可以有17種不同的平面群結(jié)構(gòu),其中10種結(jié)構(gòu)由于有二維宇稱(或垂直于平面的二重旋轉(zhuǎn))因而不允許壓電響應(yīng)的存在,而本工作則考慮了其他7種存在壓電響應(yīng)的晶體結(jié)構(gòu)下出現(xiàn)拓?fù)湎嘧兊那闆r。在這些晶體結(jié)構(gòu)中,我們發(fā)現(xiàn)壓電響應(yīng)和谷霍爾效應(yīng)(valley Hall effect)之間存在著緊密的聯(lián)系。
??????作為一個(gè)簡單的例子,我們考慮一個(gè)二維體系,其低能有效理論可以被兩個(gè)的帶能隙的二維狄拉克(Dirac)哈密頓量來描述(見圖1所示)。具有這種性質(zhì)的體系可以在大量二維材料中找到,例如,二維材料XY2 (X=Mo/W,Y=S/Se)[1]。這兩個(gè)狄拉克哈密頓量分別位于動(dòng)量K和-K(即兩個(gè)谷),并被時(shí)間反演對(duì)稱聯(lián)系。帶能隙的狄拉克哈密頓量會(huì)在K和-K附近分別產(chǎn)生相反符號(hào)的貝利曲率(Berry curvature),從而給出相反的谷陳數(shù)(valley Chern number)。這里我們將谷陳數(shù)定義作在K和-K點(diǎn)附近的貝利曲率的積分之差,所以其本身并不一定是量子化的。由霍爾電導(dǎo)和陳數(shù)之間的正比關(guān)系,我們可以知道沿X方向的電場可以在Y方向上產(chǎn)生霍爾電流。但由于時(shí)間反演對(duì)稱性,在K和-K附近產(chǎn)生的霍爾電流方向一定大小相同方向相反 (如圖1a中的代表電場和電流方向的箭頭所示),所以總的霍爾電流為零。
??????不過,這個(gè)體系中可以出現(xiàn)所謂的谷霍爾效應(yīng),而這個(gè)效應(yīng)可以通過一些光學(xué)測(cè)量或者輸運(yùn)測(cè)量的手段來觀測(cè)到[2,3]。對(duì)于二維狄拉克哈密頓量,應(yīng)變的作用在低能下可以等效成一個(gè)贗規(guī)范場(pseudo-gauge field)。通過測(cè)量一些非均勻應(yīng)變的二維材料中由于贗磁場(pseudo-magnetic field)而產(chǎn)生的朗道能級(jí),贗規(guī)范場的效果已經(jīng)得到實(shí)驗(yàn)證實(shí)[4]。
?????? 現(xiàn)在考慮一個(gè)隨時(shí)間變化的應(yīng)變張量u,相對(duì)應(yīng)的贗規(guī)范場可以給出一個(gè)贗電場,如圖1b中的所示(,而是應(yīng)變張量u的某個(gè)分量)。與通常的電場不同的是,這個(gè)贗電場在時(shí)間反演操作下反向,所以在K和-K一定是方向相反的。再加上貝利曲率在K和-K方向相反,所以應(yīng)力最終在K和-K產(chǎn)生方向相同的霍爾電流,如圖1b所示。原則上這個(gè)電流可以直接在實(shí)驗(yàn)上測(cè)量,那么這個(gè)電流到底對(duì)應(yīng)著什么樣的響應(yīng)呢?事實(shí)上,通過這個(gè)機(jī)制產(chǎn)生的電流 j 描述的是電子的位置在多大程度上偏離均勻形變,因而 j 將改變一個(gè)表面的總電荷(非電荷密度)并貢獻(xiàn)一部分電極化P隨時(shí)間的變化(中改變表面電荷的部分)。因此前面的討論意味著隨時(shí)間變化的應(yīng)變會(huì)產(chǎn)生隨時(shí)間變化的電極化,而這正對(duì)應(yīng)著壓電效應(yīng)。
??????在上述的例子中,我們只考慮了低能電子對(duì)于壓電效應(yīng)的貢獻(xiàn)。而在實(shí)驗(yàn)中,壓電效應(yīng),還可以來源于高能的電子能帶,以及離子的極化,所以總的壓電系數(shù)并不都與拓?fù)溆嘘P(guān)。但是,我們注意到,當(dāng)?shù)依斯茴D量的能隙合上再重新打開時(shí),一個(gè)拓?fù)淞孔酉嘧儠?huì)發(fā)生,而在K和-K附近谷陳數(shù)的變化(注意,這里不是陳數(shù)本身)會(huì)是量子化的。由于能隙關(guān)閉只跟低能電子有關(guān)而且低能電子的壓電效應(yīng)所產(chǎn)生的電流是由谷陳數(shù)所決定的,所以我們預(yù)言總的壓電系數(shù)在經(jīng)過這個(gè)相變時(shí)也會(huì)有一個(gè)突變,而這個(gè)突變直接正比于體系的拓?fù)洳蛔兞康淖兓??;谝陨虾唵蔚哪P退o出的物理圖像,本工作分類了所有7種有壓電效應(yīng)的晶格結(jié)構(gòu)中所有可能的能隙關(guān)閉的情況,并發(fā)現(xiàn),如果能隙關(guān)閉發(fā)生在兩個(gè)絕緣態(tài)之間而且僅需要一個(gè)微調(diào)參數(shù),那么它一定改變Z2拓?fù)洳蛔兞炕蚬汝悢?shù)。這些拓?fù)湎嘧円欢〞?huì)引起壓電常數(shù)的突變,從而說明壓電常數(shù)的突變可以被作為這些二維拓?fù)湎嘧兊膶?shí)驗(yàn)證據(jù)。
??????根據(jù)這個(gè)理論,本工作預(yù)言這種壓電常數(shù)的突變可以在碲化汞量子阱和鋇錳銻中被觀測(cè)到。如圖2(a)所示,在碲化汞量子阱中,能隙的關(guān)閉可以通過調(diào)節(jié)量子阱的厚度實(shí)現(xiàn)。這個(gè)能隙關(guān)閉的過程已經(jīng)被之前的實(shí)驗(yàn)證實(shí)是一個(gè)改變Z2拓?fù)洳蛔兞浚◤淖孕孔踊魻柦^緣體到普通的絕緣體)的拓?fù)湎嘧?。本工作預(yù)言這個(gè)拓?fù)湎嘧儠?huì)導(dǎo)致壓電系數(shù)的突變(如圖2(b)),這個(gè)理論預(yù)言有待實(shí)驗(yàn)檢驗(yàn)。
??????本工作揭示了壓電系數(shù)的突變和二維拓?fù)湎嘧冮g的關(guān)系,并提出了一個(gè)普適的理論框架來描述它,因此將有助于人們更好地理解壓電響應(yīng)在拓?fù)湮锢砝锏囊饬x。
原文引自“兩江科技評(píng)論”微信公眾號(hào)。
??????原文地址:??????
??????上海復(fù)享光學(xué)股份有限公司(簡稱:復(fù)享光學(xué))誕生于中國的高校實(shí)驗(yàn)室,是一家高科技型光譜儀器公司。公司為科學(xué)家和工程師提供光譜產(chǎn)品、系統(tǒng)、服務(wù)?!白尮庾V簡單"是公司發(fā)展理念,“光譜改變生活”是公司的愿景。
??????公司專注光譜儀器發(fā)展超過八年,是目前國內(nèi)最大的光纖光譜儀制造商和微納光子學(xué)領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)企業(yè),公司獲得國家高新技術(shù)企業(yè)資質(zhì),于2016年登陸新三板(NEEQ:838781)。公司位于復(fù)旦大學(xué)科技創(chuàng)業(yè)園,目前擁有約40名高學(xué)歷工程師。