2021年1月19日，晶瑞股份ArF浸沒(méi)式光刻機(jī)順利搬入實(shí)驗(yàn)室。公司核心管理層、光刻膠核心團(tuán)隊(duì)、業(yè)務(wù)伙伴代表及媒體代表參加了搬入慶祝儀式。

為開(kāi)展集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目，晶瑞股份于2020年10月順利購(gòu)得ASML XT 1900 Gi型浸入式光刻機(jī)一臺(tái)，可用于研發(fā)最高分辨率達(dá)28nm的高端光刻膠。該設(shè)備于2020年11月19日從原廠斷電停機(jī)，于2021年1月19日運(yùn)抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室。

晶瑞團(tuán)隊(duì)對(duì)內(nèi)目標(biāo)一致、上下同欲，對(duì)外多方協(xié)商、積極運(yùn)作，歷時(shí)短短2個(gè)多月完成了光刻機(jī)的順利搬入，充分體現(xiàn)了晶瑞團(tuán)隊(duì)的凝聚力和高效執(zhí)行力。

目前公司完成中試的KrF光刻膠已進(jìn)入客戶(hù)測(cè)試階段，達(dá)到0.15μm的分辨率。本次光刻機(jī)的順利入駐可以保障公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目關(guān)鍵設(shè)備的技術(shù)先進(jìn)性，對(duì)加快產(chǎn)品研發(fā)項(xiàng)目進(jìn)度有積極影響，有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實(shí)現(xiàn)到 ArF 光刻膠的跨越，并最終實(shí)現(xiàn)應(yīng)用于 12 英寸芯片制造的戰(zhàn)略布局。有利于進(jìn)一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競(jìng)爭(zhēng)力，對(duì)于提高公司可持續(xù)發(fā)展能力具有重大意義。

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