表面顆粒的去除可以調(diào)整化學試劑的配方成分，使得襯底表面存在zui少量的顆粒。化學配比系統(tǒng)設(shè)計了zui小的化學試劑的消耗，它提供了程序化的混合方式使化學試劑在襯底表面完全均勻的分布。這個設(shè)計也提供了精確的化學工藝時間的控制，控制超聲波去離子水的流量，然后襯底在熱氮氛圍里旋干。

  根據(jù)用戶的應(yīng)用需要，某些特定選項將有助于設(shè)備去除不想要的顆粒和雜質(zhì)。

具體應(yīng)用

清洗功能：

晶圓片

藍寶石外延片

晶圓框架上的芯片

顯示面板

ITO膜顯示材料

有圖形掩膜和無圖形掩膜

掩膜坯料

薄膜式掩膜

接觸式掩膜

光刻處理工藝：

SPM剝離

光刻膠涂膜

光刻膠剝離工藝

刻蝕：

金屬刻蝕（鋁，銅，鉻，鈦）

白骨化清洗：

在晶圓片上注射硫酸和雙氧水的混合液

紅外加熱

刷洗

兆聲雙氧水清洗

熱氮和甩干

產(chǎn)品特點：

針對21英寸外徑或15x15英寸的基底

巨聲環(huán)境清洗艙（可配備去離子水, 清洗刷, 熱去離子水, 高壓去離子水, 熱氮氣）

化學注射臂

帶化學噴射的可變速清洗刷

觸屏用戶界面

手動上下載

安全鎖和報警器

占地尺寸30 D x 26 W 

可選配項：

化學試劑傳送單元

白骨化清洗

臭氧發(fā)生器

氫化雙氧水發(fā)生器

高壓雙氧單元

硫酸氫過氧化物

紅外加熱

雙氧水循環(huán)裝置

機械手上下載單元

帶EFEM和SMIF界面的 集群系統(tǒng)

去膠/剝離工藝

帶紅外加熱的NMP滴膠

刷洗

兆聲雙氧水清洗

熱氮和甩干

CMP溶液清洗：

用刷洗和兆聲清洗去除CMP顆粒

化學噴射臂

化學噴射罐

為前面和背面刷洗設(shè)計的特殊托盤

可調(diào)速的PVA清洗刷

可調(diào)的清洗刷/晶圓接觸壓力

刷式化學噴射

帶膜/不帶膜式掩膜清洗：

全套清洗（無需更換保護膜）

全保護膜

膜式掩膜清洗工藝

 1)  掩膜背面清洗后 兆聲雙氧水清洗 刷式清洗 化學清洗 熱氮甩干

 2)熱氮甩干

SWC系列清洗系統(tǒng)

可選型號：

SWC-3000

標準臺式

兆聲清洗，N2旋干

SWC-3000-C

CDU臺式

兆聲清洗，N2旋干，帶化學試劑分配功能

SWC-3000-M

掩膜板臺式

兆聲清洗（3MHz），N2旋干或者紅外燈烘干

SWC-4000

標準立式

兆聲清洗，熱N2旋干化學配比，酸和溶劑分別獨立排放

SWC-4000-M

獨立的掩膜板清洗機

兆聲清洗，熱N2旋干

化學配比，酸和溶劑分別獨立排放

SWC-4000-MP

薄膜光刻度板清洗機

兆聲清洗，熱N2旋干

化學配比，酸和溶劑分別獨立排放

技術(shù)指標：
zui大晶園尺寸：12英寸
zui大掩膜板尺寸：6 6英寸
典型清洗時間：1分鐘
標準巨聲波頻率：1MHz
射頻電源輸出功率：60W
zui小DI水流量：1.5L/min
zui大轉(zhuǎn)速：4000RPM
系統(tǒng)控制：PLC程序控制
裝載和卸載：手動
氮氣烘干溫度：zui高300℃