勻膠機，光刻機，顯影機，等離子清洗機，紫外臭氧清洗機，紫外固化箱，壓片機，等離子去膠機，刻蝕機，加熱板

半導體化工領域專業(yè)實驗設備供應商：邁可諾是一家富有創(chuàng)新精神的高科技公司，專業(yè)提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商，邁可諾從事開發(fā)、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優(yōu)質專業(yè)的服務，幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。
我們成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定，尊重他們的決定，并協助他們實現高效率的科研成果，追求豐富有意義的生活。

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NX-B100多功能整片基板納米壓印系統（熱壓?。?/p>

zui大75毫米直徑壓印面積  熱壓印

加熱速度 200℃/分鐘 制冷速度 60℃/分鐘

NX-B200多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印和紫外壓印）

zui大75毫米直徑壓印面積  熱壓印和紫外壓印

加熱速度 200℃/分鐘 制冷速度 60℃/分鐘

58mW/cm2紫外LED光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

NX-1000多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印）

標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選  熱壓印 加熱速度 300℃/分鐘 制冷速度 150℃/分鐘

NX-2000多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印和紫外壓?。?/p>

標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選  熱壓印和紫外壓印

加熱速度 300℃/分鐘 制冷速度 150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

NX-2500

多功能整片基板帶對準功能多層次的納米壓印系統

標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選

熱壓印和紫外壓印

加熱速度 300℃/分鐘 制冷速度 150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

帶對準功能（亞1微米對準精度） 多層次的納米壓印

對準模塊 1 m 3 對準準確率 X, Y, Z, Theta平臺

分場光學和CCD相機

NX-2600

多功能整片基板帶對準功能多層次的納米壓印和高分辨率光刻系統

可選背面對準

標配4英寸,6或8英寸壓印面積可選

熱壓印和紫外壓印

加熱速度 300℃/分鐘 制冷速度 150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制

帶對準功能（亞1微米對準精度） 多層次的納米壓印

對準模塊 1 m 3 對準準確率 X, Y, Z, Theta平臺

分場光學和CCD相機

標配5 模板,標配4 直徑基板 ? 其他尺寸可以提供500瓦紫外水銀燈光源

Lumina200多功能高精度光刻機

4寸基板，5寸掩膜

Ultra-100多功能集成清潔和單分子層氣態(tài)鍍膜系統

Pieces to Full Wafers (2 , 3 , 4 , 6 or 8 OD, etc)  Up to 8 8