價(jià)格：面議

生產(chǎn)地：美國(guó)品牌：

型號(hào)：Minilock-Orion III PECVD公司傳真： 86-21-59250080

移動(dòng)電話：18721247059更新時(shí)間：2019-05-05

First-Nano System GmbH

2003年  創(chuàng)立于德國(guó)德累斯頓工業(yè)大學(xué)（Dresden University of Technology）

2008年  香港成立德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司 

2015年  上海成立德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司中國(guó)代表處，負(fù)責(zé)中國(guó)區(qū)業(yè)務(wù)

德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)成立以來(lái)，一直為客戶想的更多，Thinking more ?。。?/p>

產(chǎn)品范圍：

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma
- Wet: Megasonic, Brush, SC1, SC2, Piranha, O3DIW
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

PECVD沉積

Minilock-Orion III是一套zui xian jin的等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)。 系統(tǒng)的下電極尺寸可為200mm或300mm，且根據(jù)電極配置，可以處理單個(gè)基片或帶承片盤的基片(3 - 300mm尺寸)，或者多尺寸批處理基片(4x3 3x4 7x2 )。
Minilock-Orion III用于有毒/發(fā)火PECVD工藝。沉積薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物、無(wú)定形硅和碳化硅。工藝氣體：100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。
該系統(tǒng)可選配一個(gè)三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力。
基片通過(guò)預(yù)真空室裝入工藝室，其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶的安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而保持反應(yīng)室與大氣隔絕。