高低氧動物培養(yǎng)系統(tǒng)，口腔材料試驗設(shè)備，蛋白結(jié)晶設(shè)備，納米顯微操縱儀，果蠅相關(guān)研究，各類培養(yǎng)箱體，顯微鏡相關(guān)配件，力學(xué)設(shè)備

公司介紹：
溪拓科技（XTG-TECH）是一家專業(yè)的實驗室儀器設(shè)備服務(wù)商。專注于生命科學(xué)，納米科學(xué)，遠程監(jiān)控，蛋白結(jié)晶，口腔材料等前沿領(lǐng)域。

XTG提供歐美先進的儀器設(shè)備，同時研發(fā)相關(guān)領(lǐng)域的國產(chǎn)儀器。主營品牌：德國sd mechatronik，英國seward,法國Interscience，德國Nabertherm，德國Kleindiek，德國Brand，德國Sigma，德國Christ，美國biospherix，美國Percival，德國rumed，中國凱奧等。

XTG擁有一支專業(yè)團隊。希望以我們的熱情，不懈的努力，專業(yè)技能為我們的客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)

此外Microwriter ML的升級版Microwriter II不僅繼承了Microwriter ML的高直寫速度、分辨率等主要優(yōu)點，更進一步提高對準精度達200nm, 增加了256級的灰度直寫功能，以及1um激光的TURBO模式和2.5um、10um可選分辨率等強大功能。下表為Microwriter系列產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)對比。

無掩膜激光直寫光刻系統(tǒng)

MicroWriter ML 優(yōu)勢

 高分辨率：0.6 m

高書寫速度：180mm2/min

 超廣基片尺寸兼容范圍：1mm x 1mm~230mm x 230mm

 全自動光路系統(tǒng)，用戶無需做任何復(fù)雜費時的光路調(diào)節(jié)

通過15個激光同時平行工作，書寫速度達180min/min

高達600nm分辨率

樣品尺寸從1mm 到230 mm

對表面不平樣品自動對焦補償

占地面積小

高性價比

MicroWriter MLTM是一款新設(shè)計的激光直寫光刻系統(tǒng)，不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高書寫速度和低成本的特點。15個藍光激光頭可以在電腦控制下進行平行工作對基片上無需高分辨率的部分進行高速書寫曝光，之后自動切換高分辨激光，并對需要高分辨的細節(jié)進行加工。這樣的設(shè)計在加工速度和分辨率之間取得了好的平衡，并通過軟件改變曝光圖案設(shè)計完整保證了其靈活性。

內(nèi)置自動對焦系統(tǒng)通過調(diào)節(jié)基片臺在Z方向的位置，對基片上的紅色激光斑進行自動對焦。只需單擊軟件上的對焦鍵就能完成對新放入的基片對焦。與一些其他自動對焦系統(tǒng)對基片最小尺寸有要求不同，MicroWriter MLTM的自動對焦可以用到極小的樣品上，非常適用于對單個壓模的書寫。

對于表面不平的基片，可以在曝光之前對其表面測繪，之后進行曝光的同時中可以自動校正對焦。

確切的書寫速度取決于曝光圖案。大部分研發(fā)用圖案是由大面積區(qū)域（線、帶、塊）和少量的細小尺寸結(jié)構(gòu)組成的。MicroWriter MLTM非常適用于這類應(yīng)用。在這種情況下，使用 turbo 模式，通過自動結(jié)合高速平行書寫和高分辨書寫，可以的得到180mm2/min的有效書寫速度。對于需要進行大面積細小結(jié)構(gòu)書寫的基片，曝光時間會相應(yīng)增長。

最大可以放入230mm直徑基片，可以保證200mm x 200mm范圍內(nèi)的準確曝光。最小基片尺寸為 1mm2?；烧婵諍A從底部固定，最大基片厚度為15mm。

基本配置包括一個1 m分辨率的激光頭和15個5 m分辨率的激光頭。一個0.6 m分辨率的激光頭可以作為選件添加（OPT-HIRES）。上為分辨率測試結(jié)構(gòu)圖。單臂結(jié)構(gòu)在半徑中點以外被區(qū)分出來，4 m內(nèi)包括1 m臂寬和2 m的周期。

具有不同曝光性質(zhì)的多組曝光任務(wù)可以被結(jié)合起來。例如，用1 m激光得到一條微小的微米線，再用5 m激光得到大面積連接片并使其連接到微米線上。：光學(xué)顯微圖（左）和掃描激光顯微圖（右）顯示通過兩個曝光任務(wù)得到的微米線連接大尺寸連接片的圖形。兩個圖片都是通過MicroWriter MLTM內(nèi)置顯微鏡得到。

MicroWriter MLTM內(nèi)置的Clewin 4掩模板設(shè)計軟件（見圖11），可以用于設(shè)計多層掩模板文件，同時可以讀取多種標準圖形格式（DXF, CIF, GDSII, Gerber）的設(shè)計文件?；O(shè)計可以做步進模擬，比如設(shè)計一個單獨圖案然后在整個基片范圍內(nèi)重復(fù)運用，或者對整個基片進行整體設(shè)計，以便減少拼接誤差。與電子束刻蝕系統(tǒng)不同，MicroWriter MLTM不存在書寫范圍限制（取決于基片尺寸）。為了簡化掩模板設(shè)計，MicroWriter MLTM可以直接讀取.TIFF,.BMP等圖片格式。

絕大多數(shù)利用電子束刻蝕制造的器件只有很小的一部分結(jié)構(gòu)需要用到電子束刻蝕的高分辨率，而大部分曝光時間都浪費在了如電極連接等大面積結(jié)構(gòu)的生成上。MicroWriter MLTM可以被用在混合模式刻蝕工藝上：只用費用昂貴、速度緩慢的電子束刻蝕加工最細小的結(jié)構(gòu)，用成本低廉的MicroWriter MLTM加工大面積部分。MicroWriter MLTM先進的對準機制可以使兩部工序完美結(jié)合。因此MicroWriter MLTM也適用于已經(jīng)擁有電子束刻蝕的實驗環(huán)境。

帶有19英寸支架高速控制器的XYZ三軸電機

200mm基片臺，帶有真空夾和真空泵

電子角度修正

1組1 m分辨率405nm激光直寫頭

15組5 m分辨率405nm激光直寫頭一套紅光照明對準相機

一套鏡內(nèi)帶有光學(xué)反射探測器的激光掃描顯微鏡

一套半導(dǎo)體紅光激光自動對焦系統(tǒng)

自動校正軟件和針孔傳動探測器

溫度穩(wěn)定環(huán)境制備艙

被動式壓縮空氣減震系統(tǒng)

64-bit Winows系統(tǒng)電腦，19 顯示器 ，基于Windows系統(tǒng)的控制軟件

電子/半導(dǎo)體器件（Microelectronic/Semiconductor Devices）

微/納電機系統(tǒng) (MEMS/NEMS)

自旋電子學(xué) (Spintronics)

傳感器 (Sensors)

微流控 (Microfluidics)

材料科學(xué) (Material Science)

生物實驗室芯片（Biological lab-on-a-chip）

光子學(xué)（Photonics）