微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)
那諾中國有限公司
價格:¥1元
生產(chǎn)地:美國品牌:美國那諾-馬斯特
型號:公司傳真:86-021-31663529
移動電話:18916157635更新時間:2017-09-21
ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,熱真空試驗,晶圓清洗機,PA-MOCVD
那諾中國提供美國那諾-馬斯特薄膜工藝加工設備、德國阿爾法微波等離子清洗去膠機等。
微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)概述: NPE-4000能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到zui大可達12"直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子,具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵,腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求,無論是等離子強度、均勻度,還是要分別激活某些活性組份,這樣系統(tǒng)可以覆蓋zui廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。 產(chǎn)品特點: 不銹鋼或鋁制腔體 極限真空可達10-7Torr RF淋浴頭,HCD或微波等離子源可選 高達12"(300mm)直徑的樣品臺 RF射頻偏壓樣品臺 水冷樣品臺 可加熱到800 C樣品臺 加熱的氣體管路 加熱的液體傳送單元 抗腐蝕的渦輪分子泵組 1路載體氣體以及3路反應氣體,帶MFC zui大可支持8路MFC,帶排放箱及氣體閥組 預真空鎖及自動上下載腔門 氣動控制閥 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制 菜單驅(qū)動,4級密碼訪問保護 完整的安全聯(lián)鎖產(chǎn)品應用: 等離子誘導表面改性 等離子清洗 等離子聚合 SiO2, Si3N4, a-Si, DLC以及其它薄膜 CNT選擇性生長設備型號: NPE-4000:基于PC計算機全自動控制的獨立系統(tǒng) NPE-3500:基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立系統(tǒng) NPE-3000:基于PC計算機全自動控制的臺式系統(tǒng) NRP-4000:RIE/PECVD雙系統(tǒng) NSP-4000:濺射/PECVD雙系統(tǒng)
|