![]() EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀
北京賽凡光電儀器有限公司
價(jià)格：面議
生產(chǎn)地：品牌：
型號(hào)：EM13公司傳真：86-010-80885973
移動(dòng)電話(huà)：13911901157更新時(shí)間：2015-12-25
公司成立于2004年，在同行業(yè)中Z早獲得高新技術(shù)企業(yè)，擁有多項(xiàng)，其中 太陽(yáng)能電池測(cè)試系統(tǒng) 、 光譜儀 、 精密位移臺(tái) 三大系列產(chǎn)品被市科委、市發(fā)改委等5部門(mén)評(píng)為 北京市自主創(chuàng)新產(chǎn)品 ，并列入政府采購(gòu)目錄。公司于2009年9月取得ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證。 賽凡擁有兩大核心技術(shù)：光譜測(cè)試技術(shù)，精密運(yùn)動(dòng)控制技術(shù) 主要產(chǎn)品系列：太陽(yáng)能電池光譜響應(yīng)/IPCE/QE測(cè)試儀，太陽(yáng)能電池I/V性能測(cè)試儀，太陽(yáng)模擬器，橢偏儀，CCD光電性能測(cè)試儀，熒光/拉曼/發(fā)射/透反吸/探測(cè)器光譜測(cè)試系統(tǒng)，光柵光譜儀，CCD光譜儀，科研級(jí)光源，光電探測(cè)器，數(shù)據(jù)采集器，精密定位系統(tǒng)，電動(dòng)/手動(dòng)精密位移臺(tái)，光具座，光學(xué)平臺(tái)等。 公司自成立以來(lái)，始終秉持質(zhì)量率先，滿(mǎn)足用戶(hù)的經(jīng)營(yíng)理念，在注重提升自身研發(fā)能力的同時(shí)，和多家科研院所保持緊密合作關(guān)系，共同創(chuàng)建光電實(shí)驗(yàn)室，保證產(chǎn)品的領(lǐng)先性和適用性。其中太陽(yáng)能光伏實(shí)驗(yàn)室，為各類(lèi)太陽(yáng)能電池（單晶硅，多晶硅，薄膜電池，染料敏化電池等）的光譜響應(yīng)測(cè)試及膜厚控制提供了完整解決方案。 我們始終如一，用心為您提供良好完整的解決方案，為您提供專(zhuān)業(yè)高效的技術(shù)支持，為您提供快速響應(yīng)的售后服務(wù)，我們的追求就是讓您始終滿(mǎn)意，始終信任，始終選擇 ！
EM13LD 系列是采用量拓科技先進(jìn)的測(cè)量技術(shù)，針對(duì)普通精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的多入射角激光橢偏儀。 EM13LD 系列采用半導(dǎo)體激光器作為光源，可在單入射角度或多入射角度下對(duì)樣品進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量。可用于測(cè)量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k； 也可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實(shí)時(shí)測(cè)量納米薄膜動(dòng)態(tài)生長(zhǎng)中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜 的絕對(duì)厚度測(cè)量。 EM13LD系列采用了量拓科技多項(xiàng)技術(shù)。 特點(diǎn)：次納米的高靈敏度 國(guó)際先進(jìn)的采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測(cè)量極薄納米薄膜，膜厚精度可達(dá)到0.5nm。 3秒的快速測(cè)量 國(guó)際水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì)，在保證精度和準(zhǔn)確度的同時(shí)，可在3秒內(nèi)快速完成一次測(cè)量，可對(duì)納米膜層生長(zhǎng)過(guò)程進(jìn)行測(cè)量。 簡(jiǎn)單方便的儀器操作 用戶(hù)只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過(guò)程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫(kù)、材料庫(kù)方便用戶(hù)進(jìn)行高級(jí)測(cè)量設(shè)置。 應(yīng)用：EM13LD系列適合于普通精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。EM13LD系列可用于測(cè)量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k；可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；可用于實(shí)時(shí)測(cè)量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。EM13LD可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等?？蓱?yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。技術(shù)指標(biāo): 項(xiàng)目 技術(shù)指標(biāo) 儀器型號(hào) EM13 LD/635 (或其它選定波長(zhǎng)) 激光波長(zhǎng) 635 nm (或其它選定波長(zhǎng)，高穩(wěn)定半導(dǎo)體激光器) 膜厚測(cè)量重復(fù)性（1） 0.5nm (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) 折射率測(cè)量重復(fù)性（1） 5x10-3 (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) 單次測(cè)量時(shí)間 與測(cè)量設(shè)置相關(guān)，典型3s zui大的膜層范圍 透明薄膜可達(dá)1000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān) 光學(xué)結(jié)構(gòu) PSCA（ 在0 或180 附近時(shí)也具有極高的準(zhǔn)確度） 激光光束直徑 2mm 入射角度 40 -90 可手動(dòng)調(diào)節(jié)，步進(jìn)5 樣品方位調(diào)整 Z軸高度調(diào)節(jié)： 6.5mm 二維俯仰調(diào)節(jié)： 4 樣品對(duì)準(zhǔn)：光學(xué)自準(zhǔn)直和顯微對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 樣品臺(tái)尺寸 平面樣品直徑可達(dá) 170mm zui大外形尺寸 887 x 332 x 552mm (入射角為90 時(shí)) 儀器重量（凈重） 25Kg 選配件 水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺(tái)，真空吸附泵 軟件(ETEM) * 中英文界面可選 * 多個(gè)預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用 * 單角度測(cè)量/多角度測(cè)量操作和數(shù)據(jù)擬合 * 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出 * 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫(kù)支持 注：(1)測(cè)量重復(fù)性：是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。 性能保證:穩(wěn)定性的半導(dǎo)體激光光源、先進(jìn)的采樣方法，保證了穩(wěn)定性和準(zhǔn)確度高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng)，保證了快速、高精度的樣品方位對(duì)準(zhǔn)穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對(duì)準(zhǔn)，結(jié)合先進(jìn)的采樣技術(shù)，保證了快速、穩(wěn)定測(cè)量分立式的多入射角選擇，可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和絕對(duì)厚度的測(cè)量一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使得系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、整體穩(wěn)定性提高，并節(jié)省空間一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫(kù)和材料數(shù)據(jù)庫(kù)，方便用戶(hù)使用
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產(chǎn)品分類(lèi)